基本信息:
- 专利标题： 포지티브형 감광성 수지 조성물, 광경화성 드라이 필름 및 그 제조 방법, 패턴 형성 방법, 및 적층체
- 专利标题（英）：Positive photosensitive resin composition, photo-curable dry film and method for producing the same, patterning process, and laminate
- 专利标题（中）：正型光敏树脂组合物，光固化性干膜及其制造方法，图案形成方法，
- 申请号：KR1020170027207 申请日：2017-03-02
- 公开(公告)号：KR1020170103680A 公开(公告)日：2017-09-13
- 发明人： 다케무라가츠야 , 이이오마사시 , 우라노히로유키 , 미야자키다카시
- 申请人： 신에쓰 가가꾸 고교 가부시끼가이샤
- 申请人地址： 일본 도꾜도 지요다꾸 오떼마치 *쪼메 *방 *고
- 专利权人： 신에쓰 가가꾸 고교 가부시끼가이샤
- 当前专利权人： 신에쓰 가가꾸 고교 가부시끼가이샤
- 当前专利权人地址： 일본 도꾜도 지요다꾸 오떼마치 *쪼메 *방 *고
- 代理人： 김진회; 김태홍
- 优先权： JPJP-P-2016-042250 2016-03-04
- 主分类号： G03F7/075
- IPC分类号： G03F7/075 ; G03F7/039 ; G03F7/004 ; B32B27/08 ; B32B37/24 ; B32B38/00 ; G03F7/20 ; G03F7/26
摘要：
본발명은, Cu나 Al과같은금속배선, 전극, 기판상, 특히 SiN과같은기판상에서발생하는박리의문제를개선할수 있고, 범용적으로이용되는 2.38% TMAH 수용액을현상액에이용하여, 패턴바닥부, 기판상에스컴이나푸팅을발생시키지않고순테이퍼의형상으로미세한패턴을형성할수 있는포지티브형감광성수지조성물을제공하는것을목적으로한다. 상기목적은, (A) 하기일반식 (1)로표시되는반복단위를갖고, 중량평균분자량이 3,000∼500,000인실록산사슬을갖는고분자화합물, (B) 광에의해산을발생시키고알칼리수용액에대한용해속도가증대되는감광재, (C) 가교제, 및 (D) 용제를함유하는포지티브형감광성수지조성물로달성된다.
摘要（中）：
本发明可以解决在诸如Cu或Al的金属布线，电极或衬底，特别是在诸如SiN的衬底上发生剥离的问题，并且使用常用的2.38％TMAH水溶液作为显影液， 本发明的一个目的是提供一种正型光敏树脂组合物，其能够形成净锥形形式的精细图案而不在基底上产生浮渣或基底。 （A）具有下述通式（1）所示的重复单元且重均分子量为3000〜500000且含有硅氧烷链的高分子化合物，（B） （C）交联剂和（D）光聚合引发剂的溶解速度增加的溶剂。
公开/授权文献:
- KR101919226B1 포지티브형 감광성 수지 조성물, 광경화성 드라이 필름 및 그 제조 방법, 패턴 형성 방법, 및 적층체 公开/授权日：2018-11-15