基本信息:
- 专利标题： CO2 레이저 장치 및 CO2 레이저 가공 장치
- 专利标题（英）：Co2 laser device and co2 laser processing device
- 专利标题（中）：二氧化碳激光装置和二氧化碳激光加工装置
- 申请号：KR1020147015112 申请日：2012-10-23
- 公开(公告)号：KR1020140089570A 公开(公告)日：2014-07-15
- 发明人： 다니노요이치 , 니시마에쥰이치
- 申请人： 미쓰비시덴키 가부시키가이샤
- 申请人地址： *-*, Marunouchi *-Chome, Chiyoda-ku, Tokyo ***-**** Japan
- 专利权人： 미쓰비시덴키 가부시키가이샤
- 当前专利权人： 미쓰비시덴키 가부시키가이샤
- 当前专利权人地址： *-*, Marunouchi *-Chome, Chiyoda-ku, Tokyo ***-**** Japan
- 代理人： 제일특허법인
- 优先权： JPJP-P-2011-268264 2011-12-07
- 国际申请： PCT/JP2012/077343 2012-10-23
- 国际公布： WO2013084608 2013-06-13
- 主分类号： H01S3/08
- IPC分类号： H01S3/08 ; B23K26/06 ; G02F1/11 ; H01S3/097 ; H01S3/115 ; H01S3/117
摘要：
고출력으로 반복 주파수에 의존하지 않고 빔 직경이 안정적인 펄스 레이저를 사출하는 CO
2 레이저 장치 및 CO
2 레이저 가공 장치를 얻는다. CO
2 레이저 매질로 되는 레이저 가스 G와, 적어도 1개의 공진기 미러의 곡률 반경을, 광 스위치로부터 공진기 미러까지의 거리와 동일해지도록 설치된 근공심형의 안정형 광 공진기와, 안정형 광 공진기내에 마련된 광 스위치와, 안정형 광 공진기로부터 발생한 레이저 광(41)이 다시 CO
2 레이저 매질을 통과하도록 설치된 전송 미러(51∼56)를 구비한다.
摘要（英）：
2 레이저 장치 및 CO
2 레이저 가공 장치를 얻는다. CO
2 레이저 매질로 되는 레이저 가스 G와, 적어도 1개의 공진기 미러의 곡률 반경을, 광 스위치로부터 공진기 미러까지의 거리와 동일해지도록 설치된 근공심형의 안정형 광 공진기와, 안정형 광 공진기내에 마련된 광 스위치와, 안정형 광 공진기로부터 발생한 레이저 광(41)이 다시 CO
2 레이저 매질을 통과하도록 설치된 전송 미러(51∼56)를 구비한다.
Without depending on the repetition frequency to obtain a high-power CO
2 laser device, and CO
2 laser beam machining apparatus as a diameter of the injection pulse a stable laser. And the laser gas G is a CO
2 laser medium, the radius of curvature of at least one resonator mirror, and stable optical resonator distance and in the same year so geungong simhyeong installed to the resonator mirror from the optical switch, the optical switch provided in the stable optical resonator , the laser light generated from a stable optical resonator 41 is provided with a transfer mirror (51 to 56) are installed to pass through the CO
2 laser medium again.
公开/授权文献:
- KR101549363B1 CO2 레이저 장치 및 CO2 레이저 가공 장치 公开/授权日：2015-09-01