基本信息:
- 专利标题： 얼라인먼트 방법 및 플랫 패널 디스플레이의 제조 방법
- 专利标题（英）：Alignment method and flat panel display manufacture method
- 专利标题（中）：对准方法和平板显示制造方法
- 申请号：KR1020117023496 申请日：2011-02-28
- 公开(公告)号：KR1020110136833A 公开(公告)日：2011-12-21
- 发明人： 하마다,료따 , 무라꼬소,도모히로
- 申请人： 파나소닉 주식회사
- 申请人地址： ****, Oaza Kadoma, Kadoma-shi, Osaka, Japan
- 专利权人： 파나소닉 주식회사
- 当前专利权人： 파나소닉 주식회사
- 当前专利权人地址： ****, Oaza Kadoma, Kadoma-shi, Osaka, Japan
- 代理人： 양영준; 백만기
- 优先权： JPJP-P-2010-055728 2010-03-12
- 国际申请： PCT/JP2011/001132 2011-02-28
- 国际公布： WO2011111327 2011-09-15
- 主分类号： G03F9/00
- IPC分类号： G03F9/00 ; G03F7/207 ; H01J9/02
摘要：
기판과 포토마스크와의 거리를 소정의 노광 갭으로 설정하는 얼라인먼트 방법이다. 포토마스크는 사각형이고, 또한, 제1 변과, 제1 변과 대향하는 제2 변을 포함한다. 제1 변의 중점과 기판의 거리를 노광 갭에 맞춘다. 제1 변의 중점과, 제2 변의 중점을 연결하는 선을 축으로 하여 포토마스크를 회전시킴으로써, 제1 변의 양단의 각각과 기판의 거리를 상기 노광 갭에 맞춘다. 제1 변을 축으로 하여 포토마스크를 회전시킴으로써, 제2 변의 중점과 기판의 거리를 노광 갭에 맞춘다.
摘要（英）：
Is an alignment method that sets the distance between the substrate and photomask in a predetermined exposure gap. And the photomask is rectangular, and further, includes a first side, a first side and an opposing second sides. Set the first side of the distance of the middle point and the substrate in the exposure gap. Set the focus on the first side and the second to rotate by a photomask a line connecting the sides of the focus axis, the distance of each of the substrate at both ends of the one side to the exposure gap. By rotating the first photomask to the one side in the axial, align the second distance and the weighted side of the substrate to the exposure gap.