基本信息:
- 专利标题： 마이크로리소그래피 투영 노광 장치
- 专利标题（英）：Microlithographic projection exposure apparatus
- 专利标题（中）：微波投影曝光装置
- 申请号：KR1020117009932 申请日：2009-09-17
- 公开(公告)号：KR1020110063851A 公开(公告)日：2011-06-14
- 发明人： 블라이디스텔자샤 , 콴임-분-파트릭 , 바흐플로리안 , 벤츠다니엘 , 발디스제베린 , 베르베르아르민
- 申请人： 칼 짜이스 에스엠테 게엠베하
- 申请人地址： Rudolf-Eber-Strasse *, ***** Oberkochen, Germany
- 专利权人： 칼 짜이스 에스엠테 게엠베하
- 当前专利权人： 칼 짜이스 에스엠테 게엠베하
- 当前专利权人地址： Rudolf-Eber-Strasse *, ***** Oberkochen, Germany
- 代理人： 양영준; 안국찬
- 优先权： DE10 2008 049 5565 2008-09-30; US61/101,281 2008-09-30
- 国际申请： PCT/EP2009/006718 2009-09-17
- 国际公布： WO2010037476 2010-04-08
- 主分类号： G03F7/20
- IPC分类号： G03F7/20 ; G02B26/08
摘要：
본 발명에 따른 마이크로리소그래피 투영 노광 장치는 기부 본체 그리고 복수개의 미러 유닛을 갖는 미러 어레이를 포함하고, 각각의 미러 유닛은 미러 및 고체-상태 관절부를 포함하고, 관절부는 기부 본체에 미러를 연결하는 적어도 1개의 관절 부분을 갖는다. 제어 장치가 기부 본체에 대한 각각의 미러의 정렬을 변경하는 것을 가능케 한다. 미러 및 기부 본체 또는 기부 본체에 연결되는 미러 지지 본체의 상호 대향 표면이 활주 베어링의 대응 활주 표면으로서 설계된다.
摘要（英）：
Microlithography projection exposure apparatus according to the present invention comprises base body and includes a mirror array having a plurality of mirror units, each of the mirror unit has a mirror and solid, and includes a state joint part joint part comprises at least connecting the mirror to the base body 1 has two joints. This allows the control device changes the alignment of the respective mirror to the base body. Mutually opposing surfaces of the mirror support body connected to the mirror and the base body or the base body is designed as a corresponding slide surface of the slide bearing.
公开/授权文献:
- KR101390541B1 마이크로리소그래피 투영 노광 장치 公开/授权日：2014-04-30