基本信息:
- 专利标题： 마이크로리소그래피 투영 노광 장치
- 专利标题（英）：Microlithographic projection exposure apparatus
- 专利标题（中）：微光刻投射曝光装置
- 申请号：KR1020117009932 申请日：2009-09-17
- 公开(公告)号：KR101390541B1 公开(公告)日：2014-04-30
- 发明人： 블라이디스텔자샤 , 콴임-분-파트릭 , 바흐플로리안 , 벤츠다니엘 , 발디스제베린 , 베르베르아르민
- 申请人： 칼 짜이스 에스엠테 게엠베하
- 申请人地址： Rudolf-Eber-Strasse *, ***** Oberkochen, Germany
- 专利权人： 칼 짜이스 에스엠테 게엠베하
- 当前专利权人： 칼 짜이스 에스엠테 게엠베하
- 当前专利权人地址： Rudolf-Eber-Strasse *, ***** Oberkochen, Germany
- 代理人： 양영준; 안국찬
- 优先权： DE10 2008 049 5565 2008-09-30; US61/101,281 2008-09-30
- 国际申请： PCT/EP2009/006718 2009-09-17
- 国际公布： WO2010037476 2010-04-08
- 主分类号： G03F7/20
- IPC分类号： G03F7/20 ; G02B26/08
摘要：
본 발명에 따른 마이크로리소그래피 투영 노광 장치는 기부 본체 그리고 복수개의 미러 유닛을 갖는 미러 어레이를 포함하고, 각각의 미러 유닛은 미러 및 고체-상태 관절부를 포함하고, 관절부는 기부 본체에 미러를 연결하는 적어도 1개의 관절 부분을 갖는다. 제어 장치가 기부 본체에 대한 각각의 미러의 정렬을 변경하는 것을 가능케 한다. 미러 및 기부 본체 또는 기부 본체에 연결되는 미러 지지 본체의 상호 대향 표면이 활주 베어링의 대응 활주 표면으로서 설계된다.
摘要（中）：
根据本发明的微光刻投射曝光设备包括基体和具有多个反射镜单元的反射镜阵列，每个反射镜单元包括反射镜和固态接头，其中接头至少包括 它有一个联合部分。 允许控制装置改变每个反射镜相对于基体的对准。 反射镜和基体或与基体连接的反射镜支撑体的相互面对的表面设计为滑动轴承的相应滑动面。
摘要（英）：
Microlithography projection exposure apparatus according to the present invention comprises base body and includes a mirror array having a plurality of mirror units, each of the mirror unit has a mirror and solid, and includes a state joint part joint part comprises at least connecting the mirror to the base body 1 has two joints. This allows the control device changes the alignment of the respective mirror to the base body. Mutually opposing surfaces of the mirror support body connected to the mirror and the base body or the base body is designed as a corresponding slide surface of the slide bearing.
公开/授权文献:
- KR1020110063851A 마이크로리소그래피 투영 노광 장치 公开/授权日：2011-06-14