基本信息:
- 专利标题: 비접촉 재료 특성을 일괄적으로 분석하기 위한 장치 및 방법
- 专利标题(英):Apparatus and method for batch non-contact material characterization
- 专利标题(中):非接触材料表征的装置和方法
- 申请号:KR1020107019614 申请日:2009-02-13
- 公开(公告)号:KR1020100125285A 公开(公告)日:2010-11-30
- 发明人: 퀸윌리암이. , 벨로소프미하일 , 이동승 , 아모르에릭에이.
- 申请人: 비코 인스트루먼츠 인코포레이티드
- 申请人地址: * Terminal Drive, Plainview, NY *****, U.S.A.
- 专利权人: 비코 인스트루먼츠 인코포레이티드
- 当前专利权人: 비코 인스트루먼츠 인코포레이티드
- 当前专利权人地址: * Terminal Drive, Plainview, NY *****, U.S.A.
- 代理人: 유미특허법인
- 优先权: US12/370,044 2009-02-12; US61/066,074 2008-02-15
- 国际申请: PCT/US2009/001006 2009-02-13
- 国际公布: WO2009102502 2009-08-20
- 主分类号: H01L21/66
- IPC分类号: H01L21/66
摘要:
비접촉 재료 특성 분석을 수행하는 장치는 다수의 기판(12)을 유지하도록 된 웨이퍼 캐리어(10)와 광 발광 분광법을 수행하기 위한 장치와 같은 재료 특성 분석 장치(20)를 포함한다. 본 발명의 장치는 기판(12)을 포함해서 웨이퍼 캐리어(10)의 적어도 일부에 대하여 비접촉 재료 특성 분석을 수행하도록 되어 있다.
摘要(英):
The non-contact apparatus for performing the material characterization comprises a material characterization device 20, such as a device for carrying out the optical emission spectroscopy and the wafer carrier 10 to hold a plurality of substrates (12). Device of the invention is to perform a non-contact material characterization with respect to at least a portion of the wafer carrier 10, including substrate 12.
公开/授权文献:
- KR101326104B1 비접촉 재료 특성을 일괄적으로 분석하기 위한 장치 및 방법 公开/授权日:2013-11-06
信息查询:
EspacenetIPC结构图谱:
H | 电学 |
--H01 | 基本电气元件 |
----H01L | 半导体器件;其他类目未包含的电固体器件 |
------H01L21/00 | 专门适用于制造或处理半导体或固体器件或其部件的方法或设备 |
--------H01L21/66 | .在制造或处理过程中的测试或测量 |