基本信息:
- 专利标题： 고 반복율 레이저 발생 플라즈마 ＥＵＶ 광원
- 专利标题（英）：A high repetition rate laser produced plasma euv light source
- 专利标题（中）：高重复率激光器生产等离子体光源
- 申请号：KR1020067019050 申请日：2005-03-03
- 公开(公告)号：KR1020060125903A 公开(公告)日：2006-12-06
- 发明人： 아킨스로버트피. , 샌드스트롬리차드엘. , 파르틀로윌리암엔. , 포멘코프이고르브이. , 스타이거토마스디. , 알고츠마틴제이. , 보워링노버트알 , 자크스로버트엔. , 팔렌샤트프레데릭에이. , 송준
- 申请人： 사이머 엘엘씨
- 申请人地址： ***** Thornmint Court, San Diego, CA *****-****, U.S.A.
- 专利权人： 사이머 엘엘씨
- 当前专利权人： 사이머 엘엘씨
- 当前专利权人地址： ***** Thornmint Court, San Diego, CA *****-****, U.S.A.
- 代理人： 송봉식; 정삼영
- 优先权： US10/803,526 2004-03-17
- 国际申请： PCT/US2005/007056 2005-03-03
- 国际公布： WO2005089130 2005-09-29
- 主分类号： G01J1/00
- IPC分类号： G01J1/00 ; G03F7/20 ; H01J35/20 ; H01J65/04
摘要：
An EUV light source apparatus (20) comprises a pulse laser (22) providing laser pulses (55) at a selected pulse repetition rate focused at a desired target ignition site (28); a target formation system (92) providing discrete targets (94); a target steering system (350) intermediate the target formation system (92) and the ignition site (28); a target tracking system (42) providing information about movement of the target (94) between the target formation system (92) and the target steering system (350); an electrostatic plasma containment apparatus (314) providing an electric plasma confinement field (316) at or near the ignition site (28) at the time of ignition; a vessel (30) having an intermediate wall (282) for passing EUV light; and a magnetic plasma confinement mechanism (329) creating a magnetic field (320) in the vicinity of the ignition site (28).
摘要（中）：
EUV光源装置（20）包括脉冲激光器（22），所述脉冲激光器以聚焦在期望的目标点火现场（28）的选定的脉冲重复频率提供激光脉冲（55）; 提供离散目标（94）的目标形成系统（92）; 在目标形成系统（92）和点火位置（28）之间的目标转向系统（350）; 目标跟踪系统（42）提供关于目标形成系统（92）和目标转向系统（350）之间的目标（94）的移动的信息; 静电等离子体容纳装置（314），其在点火时在点火现场（28）处或附近提供电等离子体限制场（316）; 具有用于使EUV光通过的中间壁（282）的容器（30） 以及在点火现场（28）附近产生磁场（320）的磁等离子体限制机构（329）。
公开/授权文献:
- KR101118995B1 고 반복율 레이저 발생 플라즈마 ＥＵＶ 광원 公开/授权日：2012-03-12
信息查询:
EspacenetIPC结构图谱:
| G | 物理 |
| --G01 | 测量；测试 |
| ----G01J | 红外光、可见光、紫外光的强度、速度、光谱成分，偏振、相位或脉冲特性的测量；比色法；辐射高温测定法 |
| ------G01J1/00 | 光度测定法，例如照相的曝光表 |