基本信息:
- 专利标题： 감방사선성 수지 조성물
- 专利标题（英）：A radiation-sensitive resin composition
- 专利标题（中）：辐射敏感性树脂组合物
- 申请号：KR1020060027422 申请日：2006-03-27
- 公开(公告)号：KR1020060103882A 公开(公告)日：2006-10-04
- 发明人： 니시무라,이사오 , 에가와,히로미 , 스기에,노리히꼬 , 나쯔메,노리히로 , 다까하시,준이찌
- 申请人： 제이에스알 가부시끼가이샤
- 申请人地址： *-*-*, Higashi-Shinbashi, Minato-ku, Tokyo, Japan
- 专利权人： 제이에스알 가부시끼가이샤
- 当前专利权人： 제이에스알 가부시끼가이샤
- 当前专利权人地址： *-*-*, Higashi-Shinbashi, Minato-ku, Tokyo, Japan
- 代理人： 주성민; 위혜숙
- 优先权： JPJP-P-2005-00090569 2005-03-28
- 主分类号： G03F7/004
- IPC分类号： G03F7/004 ; G03F7/039
또한, 본 발명은 (A) 산해리성기 함유 실록산 수지 및 (B) 감방사선성 산발생제를 함유하며, 형성된 피막에 노광한 후 가열 처리했을 때, 상기 피막의 미노광부의 물과의 접촉각 (α)과 노광부의 물과의 접촉각 (β)의 차이 (α-β)가 (α-β)>5도를 충족하는 것을 특징으로 하는 감방사선성 수지 조성물을 제공한다.
상기 (A) 성분은, (가) 하기 화학식 1로 표시되는 구조 단위 (I)과 하기 화학식 2로 표시되는 구조 단위 (II)를 갖는 것이 바람직하다.
식 중, A는 환상의 2가 (치환) 탄화수소기, R
1 은 1가 산해리성기, X는 2가 (치환) 탄화수소기, Y는 단결합 또는 2가 결합손, Z는 단결합 또는 2가 (치환) 탄화수소기를 나타낸다.
레지스트, 감방사선성 수지 조성물, 실록산 수지, 감방사선성 산발생제, 초점 심도, 현상 결함
The present invention provides a useful radiation-sensitive resin composition as a sufficient basic performance, while maintaining, in particular, the depth of focus (DOF) is excellent, and a chemically amplified type resist development defect is significantly reduced as a resist.
In addition, the present invention (A) acid-cleavable group-containing siloxane resin and (B) closed when the heat treatment is radiation-sensitive and contains an acid generator, and then exposed to the formed film, a contact angle with the unexposed portion of the film of water (α ) and to the difference (α-β in the contact angle (β) with the exposed portion of water) provides a radiation-sensitive resin composition characterized by meeting the (α-β)> 5 Fig.
The component (A), (A) a preferably has the structural unit (II) represented by the formula (2) to the structural unit (I) represented by the general formula (1).