基本信息:
- 专利标题: 고정밀 히터
- 专利标题(英):High definition heater
- 申请号:KR1020177027998 申请日:2012-08-30
- 公开(公告)号:KR101941245B1 公开(公告)日:2019-01-22
- 发明人: 프타시엔스키케빈 , 스미스케빈로버트 , 스완슨칼토마스 , 슈미트필립스티븐 , 노스라티모하메드 , 린들리제이콥로버트 , 볼트알렌노먼 , 장산홍 , 스테인하우저루이스피 , 그리마드데니스스텐리
- 申请人: 와틀로 일렉트릭 매뉴팩츄어링 컴파니
- 申请人地址: 미국 미주리 ***** 세인트 루이스 랙랜드 로드 *****
- 专利权人: 와틀로 일렉트릭 매뉴팩츄어링 컴파니
- 当前专利权人: 와틀로 일렉트릭 매뉴팩츄어링 컴파니
- 当前专利权人地址: 미국 미주리 ***** 세인트 루이스 랙랜드 로드 *****
- 代理人: 리앤목특허법인
- 优先权: US61/528,939 2011-08-30; US61/635,310 2012-04-19
- 国际申请: PCT/US2012/053117 2012-08-30
- 国际公布: WO2013033381 2013-03-07
- 主分类号: H01L21/67
- IPC分类号: H01L21/67 ; H01L21/683 ; H05B3/06 ; H05B3/20
公开/授权文献:
- KR1020170118954A 고정밀 히터 公开/授权日:2017-10-25
信息查询:
EspacenetIPC结构图谱:
H | 电学 |
--H01 | 基本电气元件 |
----H01L | 半导体器件;其他类目未包含的电固体器件 |
------H01L21/00 | 专门适用于制造或处理半导体或固体器件或其部件的方法或设备 |
--------H01L21/67 | .专门适用于在制造或处理过程中处理半导体或电固体器件的装置;专门适合于在半导体或电固体器件或部件的制造或处理过程中处理晶片的装置 |