基本信息:
- 专利标题： 하향식 기판 에칭장치
- 专利标题（英）：KR101906288B1 - Apparatus for etching substrates
- 申请号：KR1020160176641 申请日：2016-12-22
- 公开(公告)号：KR101906288B1 公开(公告)日：2018-12-06
- 发明人： 조철래 , 홍경호 , 김태헌 , 백진원 , 최교원 , 이인희 , 김두환 , 감민규 , 이재철
- 申请人： 삼성디스플레이 주식회사 , 주식회사 에스에프에이
- 申请人地址： 경기 용인시 기흥구 삼성로*(농서동)
- 专利权人： 삼성디스플레이 주식회사,주식회사 에스에프에이
- 当前专利权人： 삼성디스플레이 주식회사,주식회사 에스에프에이
- 当前专利权人地址： 경기 용인시 기흥구 삼성로*(농서동)
- 代理人： 권영규; 한지희
- 主分类号： H01L51/00
- IPC分类号： H01L51/00 ; H01L51/56 ; H01L21/67 ; H01L21/677 ; H01L21/66
摘要：
하향식 기판 에칭장치가 개시된다. 본 발명에 따른 하향식 기판 에칭장치는, 내부에서 기판에 대한 에칭 공정이 수행되는 진공 챔버와, 진공 챔버의 내부에 배치되며 진공 챔버의 내부에서 기판을 제1축 방향으로 이송하는 기판 이송유닛과, 진공 챔버의 내부에 배치되며 제1축 방향에 교차하는 제2축 방향으로 이동되고 기판을 검사하는 검사모듈을 구비하는 기판 검사유닛을 포함하는 하향식 기판 에칭장치
摘要（英）：
The top-down substrate etching apparatus is provided. Top-down substrate etching apparatus according to the present invention includes a vacuum chamber in which the etching process to the substrate inside is performed, disposed in the interior of the vacuum chamber and a substrate transfer unit for transferring the substrate from the inside of the vacuum chamber in a first axial direction and, Top-down substrate etching apparatus comprising a substrate inspection unit disposed in the interior of the vacuum chamber is moved in the second axial direction intersecting with the direction of the first shaft is provided with an inspection module for inspecting the substrate
公开/授权文献:
- KR1020180073755A 하향식 기판 에칭장치 公开/授权日：2018-07-03
信息查询:
EspacenetIPC结构图谱:
| H | 电学 |
| --H01 | 基本电气元件 |
| ----H01L | 半导体器件；其他类目未包含的电固体器件 |
| ------H01L51/00 | 使用有机材料作有源部分或使用有机材料与其他材料的组合作有源部分的固态器件；专门适用于制造或处理这些器件或其部件的工艺方法或设备 |