基本信息:
- 专利标题： 전도성 패턴의 제조 방법 및 이에 의해 제조된 전도성 패턴
- 专利标题（英）：method for Manufacturing of a Conductive Pattern and the Conductive Pattern using the Same
- 专利标题（中）：导电图案的制造方法和使用其的导电图案
- 申请号：KR1020130128579 申请日：2013-10-28
- 公开(公告)号：KR101510644B1 公开(公告)日：2015-04-09
- 发明人： 이진규 , 김재일
- 申请人： 서울대학교산학협력단
- 申请人地址： 서울특별시 관악구 관악로 * (신림동)
- 专利权人： 서울대학교산학협력단
- 当前专利权人： 서울대학교산학협력단
- 当前专利权人地址： 서울특별시 관악구 관악로 * (신림동)
- 代理人： 한양특허법인
- 主分类号： H01B13/00
- IPC分类号： H01B13/00 ; H01B5/14
摘要：
본발명은 (a) 베이스기판상에전도성고분자층을형성하는단계; (b) 상기 (a) 단계에서형성된기판에강산화제를반응시켜상기전도성고분자층을선택적으로비활성화시켜패터닝시키는단계; 및 (c) 상기 (b) 단계에서패터닝된기판에메탈하이드록사이드화합물을반응시켜부분적으로디도핑 (partial de-doping) 시키는단계를포함하는전도성패턴의제조방법및 이에의하여제조된전도성패턴에관한것이다.
摘要（中）：
本发明涉及一种制造导电图案的方法及其制造的导电图案。 导电图案的制造方法包括以下步骤：（a）在基板上形成导电聚合物层; （b）通过使强氧化剂与步骤（a）中形成的基板反应而选择性地使导电聚合物层失活来图案化导电聚合物层; 和（c）通过使金属氢氧化物化合物与步骤（b）中图案化的基板反应而部分去掺杂。
摘要（英）：
The invention (a) forming a conductive polymer layer on the base substrate; (B) the step of selectively disabling the patterning to the conductive polymer layer on a substrate formed by reacting a strong oxidizing agent in the step (a); And (c) (b) reacting the metal hydroxide compound in the substrate is patterned in the step partially de-doping (partial de-doping) method for producing a conductive pattern includes the step of, and the conductive pattern produced by this It relates.
信息查询:
EspacenetIPC结构图谱:
| H | 电学 |
| --H01 | 基本电气元件 |
| ----H01B | 电缆；导体；绝缘体；导电、绝缘或介电材料的选择 |
| ------H01B13/00 | 制造导体或电缆制造的专用设备或方法 |