基本信息:
- 专利标题： 저 ＯＨ, ＯＤ 수준을 갖는 융합 실리카 및 그 제조방법
- 专利标题（英）：Me oh, fused silica and its manufacturing method having a level od
- 专利标题（中）：具有低OH，OD水平和制备方法的熔融二氧化硅
- 申请号：KR1020107004705 申请日：2008-07-18
- 公开(公告)号：KR101504377B1 公开(公告)日：2015-03-19
- 发明人： 크라프코,로스티슬라프알 , 레브론드,니콜라스 , 틴글리,제임스이
- 申请人： 코닝 인코포레이티드
- 申请人地址： One Riverfront Plaza, Corning, NY ***** U.S.A.
- 专利权人： 코닝 인코포레이티드
- 当前专利权人： 코닝 인코포레이티드
- 当前专利权人地址： One Riverfront Plaza, Corning, NY ***** U.S.A.
- 代理人： 청운특허법인
- 优先权： US11/881,599 2007-07-27
- 国际申请： PCT/US2008/008836 2008-07-18
- 国际公布： WO2009017613 2009-02-05
- 主分类号： C03B19/14
- IPC分类号： C03B19/14 ; C03C3/06
摘要：
10 ppm(parts per million) 미만, 일 구현예에서는 1 ppm 미만 농도의 히드록실(OH) 및 듀테록실(OD) 결합 농도를 갖는 융합 실리카 제품이 기재되어 있다. 상기 융합 실리카 제품은 일산화탄소를 포함하는 할로겐-프리 분위기에서 수트 블랭크를 건조하여 형성된다. 상기 건조된 수트 블랭크는 OH 및 OD 농도를 목표 수준에 도달시키고, 윱합 실리카 제품 내의 균일성을 향상시키하고자 선택적으로 도핑될 수 있다. 이후 건조된 수트 블랭크는 제품을 형성하고자 건조 및 소결된다. 10ppm 미만의 OH 및 OD 결합 농도를 감소시키는 방법이 또한 기재되어 있다.
摘要（英）：
10 ppm (parts per million) less than, one implementation example, the hydroxyl (OH) and dyute lock (OD) fused silica article having a combined concentration of less than 1 ppm concentration is described. The fused silica products are halogen containing carbon monoxide-dried soot blank is formed in the free atmosphere. The dried soot blank is reached, and the concentration of OH and OD in the target level, to improve the uniformity in the yuphap silica products it may be selectively doped with. After the dried soot blank is used to form the product is dried and sintered. The method for reducing the combined OH and OD concentration is less than 10ppm is also described.
公开/授权文献:
- KR1020100058525A 저 ＯＨ, ＯＤ 수준을 갖는 융합 실리카 및 그 제조방법 公开/授权日：2010-06-03