基本信息:
- 专利标题： 잉크젯용 잉크 조성물, 이를 이용한 식각 마스크, 절연막 및 그 제조방법
- 专利标题（英）：Ink composition for ink-jet printing, dielectric and etching mask formed using thereof, and method of manufacturing dielectric and etching mask
- 专利标题（中）：用于其中形成的墨水印刷，电介质和蚀刻掩模的墨水组合物以及制造电介质和蚀刻掩模的方法
- 申请号：KR1020120058767 申请日：2012-05-31
- 公开(公告)号：KR101440976B1 公开(公告)日：2014-09-18
- 发明人： 구용성 , 유민아 , 김상우
- 申请人： 주식회사 엘지화학
- 申请人地址： ***, Yeoui-daero, Yeongdeungpo-gu, Seoul, Republic of Korea
- 专利权人： 주식회사 엘지화학
- 当前专利权人： 주식회사 엘지화학
- 当前专利权人地址： ***, Yeoui-daero, Yeongdeungpo-gu, Seoul, Republic of Korea
- 代理人： 특허법인씨엔에스
- 主分类号： C09D11/00
- IPC分类号： C09D11/00 ; C09D11/10 ; H01L21/31 ; H01L21/312
摘要：
본 발명은 잉크젯용 잉크 조성물에 관한 것으로서, 구체적으로 a)폴리 이미드 15 내지 50중량부; b)계면활성제 0.01 내지 2중량부; 및 c)용매 48 내지 85중량부를 포함하는 잉크 조성물, 이를 이용한 식각 마스크, 절연막 및 그 제조방법에 관한 것이다.
摘要（英）：
The present invention relates to ink compositions for ink-jet, in particular a) polyimide of 15 to 50 parts by weight; b) a surfactant from 0.01 to 2 parts by weight; And c) it relates to an ink composition containing a solvent 48 to 85 parts by weight, the etching mask, the insulating film, and a manufacturing method using the same.
公开/授权文献:
- KR1020130134897A 잉크젯용 잉크 조성물, 이를 이용한 식각 마스크, 절연막 및 그 제조방법 公开/授权日：2013-12-10