基本信息:
- 专利标题： 포지티브형 감광성 수지 조성물, 레지스트 패턴의 제조 방법 및 전자 부품
- 专利标题（英）：Positive-type photosensitive resin composition, method for producing resist pattern, and electronic component
- 专利标题（中）：阳离子型感光性树脂组合物，电阻型图案的制造方法以及电子部件
- 申请号：KR1020117002154 申请日：2009-09-02
- 公开(公告)号：KR101379057B1 公开(公告)日：2014-03-28
- 发明人： 마츠타니히로시 , 우에노타쿠미 , 니콜라알렉산드로 , 나나우미켄
- 申请人： 히타치가세이가부시끼가이샤
- 申请人地址： *-*, Marunouchi *-chome, Chiyoda-ku, Tokyo, ***-****, Japan
- 专利权人： 히타치가세이가부시끼가이샤
- 当前专利权人： 히타치가세이가부시끼가이샤
- 当前专利权人地址： *-*, Marunouchi *-chome, Chiyoda-ku, Tokyo, ***-****, Japan
- 代理人： 특허법인원전
- 优先权： JPJP-P-2008-227182 2008-09-04
- 国际申请： PCT/JP2009/065336 2009-09-02
- 国际公布： WO2010026988 2010-03-11
- 主分类号： G03F7/039
- IPC分类号： G03F7/039 ; G03F7/022 ; G03F7/40 ; H01L21/027
摘要：
(A) 페놀성 수산기를 갖는 알칼리 가용성 수지와, (B) 탄소수 4~100의 불포화탄화수소기를 갖는 화합물로 변성된 페놀 수지와, (C) 빛에 의해 산을 생성하는 화합물과, (D) 가열에 의해 (A) 성분 및 (B) 성분을 가교하는 열가교제와, (E) 용제를 함유하는 포지티브형 감광성 수지 조성물.
摘要（英）：
(A) a phenolic and an alkali-soluble resin having a hydroxyl group, (B) a phenol resin modified by a compound having an unsaturated hydrocarbon group having a carbon number of 4 ~ 100, (C) compound, (D) is heated to generate an acid by light by components (a) and (B) the thermal crosslinking agent to crosslink the composition, (E) the positive photosensitive resin composition containing a solvent.
公开/授权文献:
- KR1020110019443A 포지티브형 감광성 수지 조성물, 레지스트 패턴의 제조 방법 및 전자 부품 公开/授权日：2011-02-25