基本信息:
- 专利标题： 정렬 오류를 결정하기 위한 장치, 디바이스 및 방법
- 专利标题（英）：Apparatus, device and method for determining alignment errors
- 专利标题（中）：装置，装置和确定对准错误的方法
- 申请号：KR1020127011494 申请日：2011-09-07
- 公开(公告)号：KR101313909B1 公开(公告)日：2013-10-01
- 发明人： 빔플링게르,마르쿠스
- 申请人： 이베게 임모빌리엔 운트 베타일리궁스 게엠베하
- 申请人地址： DI Erich Thallner Strasse *, A-**** St. Florian am Inn, Austria
- 专利权人： 이베게 임모빌리엔 운트 베타일리궁스 게엠베하
- 当前专利权人： 이베게 임모빌리엔 운트 베타일리궁스 게엠베하
- 当前专利权人地址： DI Erich Thallner Strasse *, A-**** St. Florian am Inn, Austria
- 代理人： 강명구
- 优先权： EP100155696 2010-12-13
- 国际申请： PCT/EP2011/065492 2011-09-07
- 国际公布： WO2012079786 2012-06-21
- 主分类号： H01L21/66
- IPC分类号： H01L21/66 ; H01L21/02
摘要：
본 발명은, 제 1 기판(1)이 제 2 기판(2)에 접합될 때 제 2 기판(2)에 대한 제 1 기판(1)의 변형 및/또는 비틀림으로 인해 발생한 국소 정렬 오류를 결정하고, 웨이퍼의 정렬 동안 및/또는 정렬 후에 (특히 하나 또는 둘 모두의 웨이퍼의 하나 이상의 투명 영역을 통해) 기록되는 웨이퍼의 위치 맵, 변형률 맵 및/또는 응력 맵에 의해 두 개의 웨이퍼를 정렬하기 위한 장치, 디바이스 및 방법에 대한 것이며, 선택사항으로서, 두 개의 웨이퍼의 서로에 대한 상대적 위치가, 특히, 제자리에서 수정된다.
摘要（英）：
The present invention, the first substrate (1) determine the local alignment errors caused by deformation and / or twisting of the first substrate (1) on the second substrate (2) to be joined to the second substrate 2, and , device for aligning the two wafers by for alignment of the wafer and / or after the alignment (in particular through one or more transparent areas of the wafer, or both) position of the wafer to be recorded map, strain map and / or the stress map , as a selection, will made to the device and method, the relative position of the two wafers to each other, in particular, is fixed in place.
公开/授权文献:
- KR1020120120122A 정렬 오류를 결정하기 위한 장치, 디바이스 및 방법 公开/授权日：2012-11-01
信息查询:
EspacenetIPC结构图谱:
| H | 电学 |
| --H01 | 基本电气元件 |
| ----H01L | 半导体器件；其他类目未包含的电固体器件 |
| ------H01L21/00 | 专门适用于制造或处理半导体或固体器件或其部件的方法或设备 |
| --------H01L21/66 | .在制造或处理过程中的测试或测量 |