基本信息:
- 专利标题: 기능성 박막 및 기능성 박막 적층 방법
- 专利标题(英):Functionality thin film and method for laminating functionality thin film
- 专利标题(中):功能薄膜和层压功能薄膜的方法
- 申请号:KR1020110142117 申请日:2011-12-26
- 公开(公告)号:KR101306022B1 公开(公告)日:2013-09-12
- 发明人: 한전건 , 최윤석 , 진수봉
- 申请人: 성균관대학교산학협력단
- 申请人地址: 경기도 수원시 장안구 서부로 **** (천천동, 성균관대학교내)
- 专利权人: 성균관대학교산학협력단
- 当前专利权人: 성균관대학교산학협력단
- 当前专利权人地址: 경기도 수원시 장안구 서부로 **** (천천동, 성균관대학교내)
- 代理人: 특허법인엠에이피에스
- 主分类号: H01B5/14
- IPC分类号: H01B5/14 ; H01B3/10 ; G06F3/041
摘要:
기능성 박막이 개시되며, 상기 기능성 박막은 투명 기판, 상기 투명 기판 상에 형성되고, 가시광선 영역에서 투명 상태를 유지하는 산화물을 포함하는 투명 반도체층, 및 상기 투명 반도체층 상에 형성된 절연보호막을 포함하되, 상기 투명 반도체층의 면저항은 10MΩ/□ ~ 100MΩ/□이다.
摘要(英):
The functional thin film is disclosed, wherein the functional film comprises a transparent substrate, a transparent semiconductor layer, and a protective insulating layer formed on the transparent semiconductor layer including an oxide which is formed on the transparent substrate, maintaining a transparent state in the visible light region but, the sheet resistance of the transparent semiconductor layer is 10MΩ / □ ~ 100MΩ / a □.
公开/授权文献:
- KR1020130074195A 기능성 박막 및 기능성 박막 적층 방법 公开/授权日:2013-07-04
信息查询:
EspacenetIPC结构图谱:
H | 电学 |
--H01 | 基本电气元件 |
----H01B | 电缆;导体;绝缘体;导电、绝缘或介电材料的选择(磁性材料的选择入H01F1/00;波导管入H01P) |
------H01B5/00 | 按形状区分的非绝缘导体或导电物体 |
--------H01B5/14 | .在绝缘支承物上有导电层或导电薄膜的 |