基本信息:
- 专利标题： 플라즈마 밀도를 증가시켜 전자빔을 효과적으로 가속을 위한 장치
- 专利标题（英）：Apparatus for Efficiently Accelerating Electron Beam through Forming Increase Structure of Plasma Density
- 专利标题（中）：通过形成等离子体密度增加结构有效加速电子束的装置
- 申请号：KR1020100119998 申请日：2010-11-29
- 公开(公告)号：KR101197574B1 公开(公告)日：2012-11-06
- 发明人： 김재훈 , 김근주
- 申请人： 한국전기연구원
- 申请人地址： 경상남도 창원시 성산구 불모산로**번길 ** (성주동)
- 专利权人： 한국전기연구원
- 当前专利权人： 한국전기연구원
- 当前专利权人地址： 경상남도 창원시 성산구 불모산로**번길 ** (성주동)
- 代理人： 특허법인충정
- 主分类号： H05H5/00
- IPC分类号： H05H5/00 ; H05H1/54
摘要：
본 발명은 레이저 플라즈마를 이용한 전자빔 가속에서 디패이징 현상을 일으키는 전자의 제한된 에너지를 극복하도록 전자의 에너지를 효과적으로 향상시킬 수 있는 노즐을 장착한 전자빔 가속을 위한 플라즈마 장치를 제공하는 데 있다.
摘要（英）：
The present invention is to provide a plasma apparatus for the electron beam accelerator equipped with a nozzle which can effectively improve the electron of energy to overcome the limited energy of the electrons in the electron beam acceleration causing dipae easing symptoms using a laser plasma.
公开/授权文献:
- KR1020120058287A 플라즈마 밀도를 증가시켜 전자빔을 효과적으로 가속을 위한 장치 公开/授权日：2012-06-07