基本信息:
- 专利标题： 패턴화된 투명 도전 필름의 제조 방법
- 专利标题（英）：Method of manufacturing patterned transparent conductive film
- 申请号：KR1020100114981 申请日：2010-11-18
- 公开(公告)号：KR101190510B1 公开(公告)日：2012-10-16
- 发明人： 최승규 , 안철흥 , 김동현 , 이재규 , 변상혁
- 申请人： 신화인터텍 주식회사 , 안철흥
- 申请人地址： 충남 천안시 동남구 병천면 매봉로 ***
- 专利权人： 신화인터텍 주식회사,안철흥
- 当前专利权人： 신화인터텍 주식회사,안철흥
- 当前专利权人地址： 충남 천안시 동남구 병천면 매봉로 ***
- 代理人： 특허법인가산
- 主分类号： H01B13/00
- IPC分类号： H01B13/00 ; H01B5/14
摘要：
패턴화된 투명 도전 필름의 제조 방법이 제공된다. 패턴화된 투명 도전 필름의 제조 방법은 기판 상에 포토레지스트층을 형성하고, 상기 포토레지스트층을 패터닝하여 상기 기판을 부분적으로 노출시키는 오픈부를 정의하는 포토레지스트 패턴을 형성하고, 상기 오픈부 내에 투명 도전성 조성물을 제공하고, 상기 투명 도전성 조성물을 건조하여 상기 오픈부 내에 투명 도전막을 형성하고, 상기 포토레지스트 패턴을 제거하는 것을 포함한다.
摘要（英）：
Patterned, a method is provided for producing a transparent conductive film. Patterned method of producing a transparent conductive film to form a photoresist layer on a substrate and patterning the photoresist layer to form a photoresist pattern that defines the opening to partially expose the substrate, and transparent in the open portion providing a conductive composition, and drying the transparent conductive composition to the transparent conductive film is formed in the open portions, and including removing the photoresist pattern.
公开/授权文献:
- KR1020120053716A 패턴화된 투명 도전 필름의 제조 방법 公开/授权日：2012-05-29
信息查询:
EspacenetIPC结构图谱:
| H | 电学 |
| --H01 | 基本电气元件 |
| ----H01B | 电缆；导体；绝缘体；导电、绝缘或介电材料的选择 |
| ------H01B13/00 | 制造导体或电缆制造的专用设备或方法 |