基本信息:
- 专利标题： 광학활성 (Ｒ)-2-페녹시프로피온산 유도체의 제조방법
- 专利标题（英）：A Process for Optical Pure R-2-Phenoxypropionic acid derivatives
- 专利标题（中）：光学纯R-2-苯氧基丙酸衍生物的方法
- 申请号：KR1020040047240 申请日：2004-06-23
- 公开(公告)号：KR100597259B1 公开(公告)日：2006-07-06
- 发明人： 김대황 , 정근회 , 장해성 , 고영관 , 류재욱 , 우재춘 , 구동완
- 申请人： 한국화학연구원
- 申请人地址： ***, Gajeong-ro, Yuseong-gu, Daejeon, *****, Republic of Korea
- 专利权人： 한국화학연구원
- 当前专利权人： 한국화학연구원
- 当前专利权人地址： ***, Gajeong-ro, Yuseong-gu, Daejeon, *****, Republic of Korea
- 代理人： 이학수; 백남훈
- 主分类号： C07C67/40
- IPC分类号： C07C67/40 ; C07C69/736
R )-2-페녹시프로피온산 유도체의 제조방법에 관한 것으로서, 더욱 상세하게는
p- 치환된 페놀 유도체와 알킬 (
S )-2-아릴술포닐옥시프로피오네이트를 반응 원료물질로 사용하고, 이를 알칼리금속염 염기와 탄화수소 용매 존재 하에서 60 ∼ 100 ℃ 온도로 반응시켜 다음 화학식 1로 표시되는 광학활성 (
R )-2-페녹시프로피온산 유도체를 고순도로 제조하는 방법에 관한 것이다.
상기 화학식 1에서, A는 벤조일옥시(BzO)기, 아세톡시(AcO)기,
p- 톨루엔술포닐옥시(
p- TsO)기, 또는 C
1 -C
6 의 지방족 아실기를 나타내고; R은 C
1 -C
6 의 알킬기를 나타낸다.
광학활성, p-(p-톨루엔술포닐옥시)페놀, p-아실페놀, p-벤조일옥시페놀, p-아세톡시페놀, 알킬 (S)-2-(p-톨루엔술포닐옥시)프로피오네이트, (R)-2-(p-아세틸페녹시)프로피온산(에스터), (R)-2-(p-아세틸옥시페녹시)프로피온산(에스터), (R)-2-(p-하이드록시페녹시)프로피온산(에스터)
The present invention is an optically active
(R) -2- phenoxypropionic acid relates to a method of producing a derivative, more specifically to a
p- substituted phenol derivative and an alkyl
(S) -2- aryl sulfonyloxy propionate a reaction raw material used as the material, and reacting them at a temperature under 60 ~ 100 ℃ alkali metal base and a hydrocarbon solvent present to a method for producing an optically active
(R) -2- phenoxypropionic acid derivative represented by the following formula (1) in high purity.
公开/授权文献:
- KR1020050122087A 광학활성 (Ｒ)-2-페녹시프로피온산 유도체의 제조방법 公开/授权日：2005-12-28