基本信息:
- 专利标题： 感光性樹脂組成物、レジスト膜、パターン形成方法及び電子デバイスの製造方法
- 申请号：JP2018030050 申请日：2018-08-10
- 公开(公告)号：JPWO2019064961A1 公开(公告)日：2020-04-02
- 发明人： 丸茂 和博 , 丹呉 直紘 , 西尾 亮 , ▲高▼田 暁
- 申请人： 富士フイルム株式会社
- 申请人地址： 東京都港区西麻布2丁目26番30号
- 专利权人： 富士フイルム株式会社
- 当前专利权人： 富士フイルム株式会社
- 当前专利权人地址： 東京都港区西麻布2丁目26番30号
- 代理人： 特許業務法人太陽国際特許事務所
- 优先权： JP2017190835 2017-09-29
- 主分类号： G03F7/039
- IPC分类号： G03F7/039 ; G03F7/20 ; C07D263/60 ; C07D263/57 ; C07D263/56 ; C07D277/66 ; C07D277/62 ; C07D277/84 ; C08F20/22 ; G03F7/004
摘要：
抜きパターンの形成時における焦点深度の許容度が大きい感光性樹脂組成物、上記感光性樹脂組成物の固化物であるレジスト膜、上記レジスト膜によるパターン形成方法、及び、上記レジスト膜による電子デバイスの製造方法を提供する。感光性樹脂組成物は、酸分解性基を有する構成単位を有する樹脂、光酸発生剤、溶剤、及び、式Dで表される化合物を含む。式D中、X D はO原子又はS原子を表し、R 1D は水素原子、炭化水素基、アシル基、アシルオキシ基又はアルコキシカルボニル基を表し、R 2D は、置換基を表し、nDは0以上4以下の整数を表し、2以上のR 2D が結合して環を形成していてもよい。
公开/授权文献:
- JP2019146417A 電池駆動機器 公开/授权日：2019-08-29