基本信息:
- 专利标题： 反射型マスクブランク、反射型マスク及びその製造方法、並びに半導体装置の製造方法
- 申请号：JP2018000959 申请日：2018-01-16
- 公开(公告)号：JPWO2018135467A1 公开(公告)日：2019-01-31
- 发明人： 池邊 洋平 , 笑喜 勉
- 申请人： HOYA株式会社
- 申请人地址： 東京都新宿区西新宿六丁目10番1号
- 专利权人： HOYA株式会社
- 当前专利权人： HOYA株式会社
- 当前专利权人地址： 東京都新宿区西新宿六丁目10番1号
- 代理人： 特許業務法人 津国
- 优先权： JP2017005773 2017-01-17
- 主分类号： G03F1/32
- IPC分类号： G03F1/32 ; G03F1/40 ; G03F1/50 ; G03F1/52 ; G03F7/20 ; G03F1/24
摘要：
EUVリソグラフィーのシャドーイング効果を低減し、微細なパターンを形成することが可能な反射型マスクブランク及び反射型マスクを提供する。このことにより安定して高い転写精度で半導体装置を製造する。 基板上に、多層反射膜及びEUV光の位相をシフトさせる位相シフト膜をこの順で有する反射型マスクブランクであって、前記位相シフト膜は、単層膜又は2層以上の多層膜からなり、タンタル(Ta)及びチタン(Ti)を含む材料からなる反射型マスクブランクとする。
公开/授权文献:
- JP2018110858A 自律走行掃除機 公开/授权日：2018-07-19