基本信息:
- 专利标题: 仮固定用樹脂組成物、仮固定用樹脂フィルム及び仮固定用樹脂フィルムシート
- 专利标题(英):JP6287190B2 - Temporary fixing resin composition, the temporary fixing resin film and the temporary fixing resin film sheet
- 申请号:JP2013268905 申请日:2013-12-26
- 公开(公告)号:JP6287190B2 公开(公告)日:2018-03-07
- 发明人: 祖父江 省吾 , 川守 崇司 , 牧野 竜也 , 松崎 隆行
- 申请人: 日立化成株式会社
- 申请人地址: 東京都千代田区丸の内一丁目9番2号
- 专利权人: 日立化成株式会社
- 当前专利权人: 日立化成株式会社
- 当前专利权人地址: 東京都千代田区丸の内一丁目9番2号
- 代理人: 長谷川 芳樹; 清水 義憲; 古下 智也
- 主分类号: H01L21/304
- IPC分类号: H01L21/304 ; C09J201/00 ; C09J201/10 ; C09J167/00 ; C09J11/06 ; C09J133/00 ; C09J11/04 ; H01L21/02
公开/授权文献:
- JP2015126063A 仮固定用樹脂組成物、仮固定用樹脂フィルム及び仮固定用樹脂フィルムシート 公开/授权日:2015-07-06
信息查询:
EspacenetIPC结构图谱:
H | 电学 |
--H01 | 基本电气元件 |
----H01L | 半导体器件;其他类目未包含的电固体器件 |
------H01L21/00 | 专门适用于制造或处理半导体或固体器件或其部件的方法或设备 |
--------H01L21/02 | .半导体器件或其部件的制造或处理 |
----------H01L21/027 | ..未在H01L21/18或H01L21/34组中包含的为进一步的光刻工艺在半导体之上制作掩膜 |
------------H01L21/18 | ...器件有由周期表第Ⅳ族元素或含有/不含有杂质的AⅢBⅤ族化合物构成的半导体,如掺杂材料 |
--------------H01L21/26 | ....用波或粒子辐射轰击的 |
----------------H01L21/302 | .....改变半导体材料的表面物理特性或形状的,例如腐蚀、抛光、切割 |
------------------H01L21/304 | ......机械处理,例如研磨、抛光、切割 |