基本信息:
- 专利标题： 描画装置、露光描画装置、プログラム及び描画方法
- 专利标题（英）：Drawing device, exposure drawing apparatus, program and drawing method
- 专利标题（中）：绘图装置，曝光绘图装置，程序和绘图方法
- 申请号：JP2012179936 申请日：2012-08-14
- 公开(公告)号：JP5975785B2 公开(公告)日：2016-08-23
- 发明人： 菊池 浩明
- 申请人： 株式会社アドテックエンジニアリング
- 申请人地址： 東京都港区虎ノ門三丁目5番1号虎ノ門37森ビル11階
- 专利权人： 株式会社アドテックエンジニアリング
- 当前专利权人： 株式会社アドテックエンジニアリング
- 当前专利权人地址： 東京都港区虎ノ門三丁目5番1号虎ノ門37森ビル11階
- 代理人： 中島 淳; 加藤 和詳; 福田 浩志; 稲葉 良幸; 田中 克郎
- 主分类号： G03F7/20
- IPC分类号： G03F7/20 ; H01L21/027 ; H05K3/00 ; G03F9/00