基本信息:
- 专利标题： ポジ型レジスト材料及びこれを用いたパターン形成方法
- 专利标题（英）：Positive resist composition and a pattern forming method using the same
- 专利标题（中）：使用相同的正型抗蚀剂组合物和图案化工艺
- 申请号：JP2012033501 申请日：2012-02-20
- 公开(公告)号：JP5776580B2 公开(公告)日：2015-09-09
- 发明人： 畠山 潤 , 永田 岳志 , 森澤 拓
- 申请人： 信越化学工業株式会社
- 申请人地址： 東京都千代田区大手町二丁目6番1号
- 专利权人： 信越化学工業株式会社
- 当前专利权人： 信越化学工業株式会社
- 当前专利权人地址： 東京都千代田区大手町二丁目6番1号
- 代理人： 小島 隆司; 重松 沙織; 小林 克成; 石川 武史
- 优先权： JP2011040065 2011-02-25
- 主分类号： G03F7/004
- IPC分类号： G03F7/004 ; C08F20/10 ; C08G8/04 ; G03F7/039