基本信息:
- 专利标题： 酸化物焼結体及びスパッタリングターゲット
- 专利标题（英）：Oxide sintered body and sputtering target
- 专利标题（中）：氧化物烧结体和溅射靶
- 申请号：JP2013265227 申请日：2013-12-24
- 公开(公告)号：JP5759530B2 公开(公告)日：2015-08-05
- 发明人： 宇都野 太 , 井上 一吉 , 川嶋 浩和 , 笠見 雅司 , 矢野 公規 , 寺井 恒太
- 申请人： 出光興産株式会社
- 申请人地址： 東京都千代田区丸の内3丁目1番1号
- 专利权人： 出光興産株式会社
- 当前专利权人： 出光興産株式会社
- 当前专利权人地址： 東京都千代田区丸の内3丁目1番1号
- 代理人： 渡辺 喜平; 田中 有子; 佐藤 猛
- 优先权： JP2008241644 2008-09-19 JP2009043153 2009-02-25
- 主分类号： C04B35/00
- IPC分类号： C04B35/00 ; H01L21/363 ; C23C14/34
公开/授权文献:
- JP2014098211A Oxide sintered body, and sputtering target 公开/授权日：2014-05-29