基本信息:
- 专利标题： Forming method and optical element of the anti-reflection film
- 专利标题（中）：空值
- 申请号：JP2009074255 申请日：2009-03-25
- 公开(公告)号：JP5375247B2 公开(公告)日：2013-12-25
- 发明人： 峰太 鈴木 , 孝紳 塩川 , 和広 山田 , 寛之 中山 , 日出樹 山口 , 彩子 丸田
- 申请人： リコーイメージング株式会社
- 专利权人： リコーイメージング株式会社
- 当前专利权人： リコーイメージング株式会社
- 优先权： JP2008078477 2008-03-25
- 主分类号： G02B1/11
- IPC分类号： G02B1/11 ; G02B1/02 ; G02B1/111 ; G11B7/135 ; G11B7/1374
摘要：
A method for forming an anti-reflection coating of alkali-treated silica aerogel on a substrate, comprising the steps of hydrolyzing and polymerizing alkoxysilane in the presence of a base catalyst to prepare an alkaline sol, adding an acid catalyst to the alkaline sol to carry out further hydrolysis and polymerization to prepare a first acidic sol, hydrolyzing and polymerizing alkoxysilane in the presence of an acid catalyst to prepare a second acidic sol, mixing the first and second acidic sols, applying the resultant mixed sol to the substrate, drying it, and treating the resultant silica aerogel coating with an alkali.
摘要（中）：
一种在基材上形成碱处理的二氧化硅气凝胶的防反射涂层的方法，包括在碱催化剂存在下水解和聚合烷氧基硅烷以制备碱性溶胶的步骤，向碱性溶胶中加入酸催化剂以携带 进一步水解和聚合以制备第一酸性溶胶，在酸催化剂存在下水解和聚合烷氧基硅烷以制备第二酸性溶胶，混合第一和第二酸性溶胶，将所得混合溶胶施加到基材上，将其干燥， 并用碱处理得到的二氧化硅气凝胶涂层。
公开/授权文献:
- JP2009258711A Method for forming antireflective film and optical film 公开/授权日：2009-11-05
信息查询:
EspacenetIPC结构图谱:
| G | 物理 |
| --G02 | 光学 |
| ----G02B | 光学元件、系统或仪器 |
| ------G02B1/00 | 按制造材料区分的光学元件；用于光学元件的光学涂层 |
| --------G02B1/10 | .对光学元件表面涂覆或对它进行表面处理后所产生的光学涂层 |
| ----------G02B1/11 | ..抗反射涂层 |