发明专利
JP5171422B2 Photosensitive composition, pattern forming method using the same, a method of manufacturing a semiconductor device
有权
基本信息:
- 专利标题： Photosensitive composition, pattern forming method using the same, a method of manufacturing a semiconductor device
- 申请号：JP2008160023 申请日：2008-06-19
- 公开(公告)号：JP5171422B2 公开(公告)日：2013-03-27
- 发明人： 実 鳥海 , 俊郎 井谷
- 申请人： ルネサスエレクトロニクス株式会社
- 专利权人： ルネサスエレクトロニクス株式会社
- 当前专利权人： ルネサスエレクトロニクス株式会社
- 优先权： JP2008160023 2008-06-19
- 主分类号： G03F7/004
- IPC分类号： G03F7/004 ; C08F212/14 ; G03F7/039 ; H01L21/027