基本信息:
- 专利标题： 紫外線への曝露によって生成された大気汚染物質分子及び/又はフリーラジカルに対する局所的保護のための方法
- 申请号：JP2021528001 申请日：2019-06-03
- 公开(公告)号：JP2021534226A 公开(公告)日：2021-12-09
- 发明人： アサラン、ハン , トレル、ジャン − ノエル
- 申请人： バイオニュークレイ
- 申请人地址： フランス共和国 13290 エクス − アン − プロヴァンス、リュ ピエール − シモン ラプラス 355
- 专利权人： バイオニュークレイ
- 当前专利权人： バイオニュークレイ
- 当前专利权人地址： フランス共和国 13290 エクス − アン − プロヴァンス、リュ ピエール − シモン ラプラス 355
- 代理人： 特許業務法人浅村特許事務所
- 优先权： FR1854745 2018-05-31
- 国际申请： FR2019051302 JP 2019-06-03
- 国际公布： WO2019229401 JP 2019-12-05
- 主分类号： A61K8/19
- IPC分类号： A61K8/19 ; A61K8/25 ; A61K8/27 ; A61K8/26 ; A61K8/29 ; A61K8/23 ; A61K8/81 ; A61K8/84 ; A61K8/33 ; A61K8/36 ; A61Q17/04 ; A61K8/73
A method of providing topical protection against atmospheric pollutant molecules and against ultraviolet (UV) radiation, said method comprising the steps of:a) forming a polymer matrix that is both repellent and antiadhesive to atmospheric pollutant molecules, by means of a first biocompatible polymer (BP1);b) under the effect of UV radiation, photocatalytically degrading the pollutant molecules that have penetrated into the polymer matrix by means of first semiconductor colloids (Col-1) grafted covalently with a second biocompatible polymer (BP2), thereby leading to formation of free radicals;c) neutralizing said free radicals by means of at least 2 antioxidants, namely:a first antioxidant in the form of second semiconductor colloids (Col-2) grafted covalently with said first antioxidant (AntiOx-1); the second grafted colloids (Col-2) self-regenerating under the action of the UV radiation; anda second antioxidant (AntiOx-2) that is not in the form of colloids grafted with an antioxidant; andd) stabilizing the polymer matrix by means of the second antioxidant (AntiOx-2).
信息查询:
EspacenetIPC结构图谱:
| A | 人类生活必需 |
| --A61 | 医学或兽医学；卫生学 |
| ----A61K | 医用、牙科用或梳妆用的配制品 |
| ------A61K8/00 | 化妆品或类似的梳妆用配制品 |
| --------A61K8/02 | .以特殊的物理形状为特征 |
| ----------A61K8/19 | ..含无机成分 |