基本信息:
- 专利标题： フリーラジカル光開始剤及びシリコーン組成物におけるその使用
- 申请号：JP2019571007 申请日：2018-06-21
- 公开(公告)号：JP2020524735A 公开(公告)日：2020-08-20
- 发明人： クリスチャン・マリベルニー , ペリーヌ・テイル , ジャン−マルク・フランシス , ザビエル・アロナス , アーマッド・イブラヒム
- 申请人： エルケム・シリコーンズ・フランス・エスアエス , ELKEM SILICONES France SAS , ユニヴェルシテ ド オート アルザス , Universite de Haute Alsace
- 申请人地址： フランス国、エフ−69003・リヨン、アブニユ・ジヨルジユ・ポンピドー・21
- 专利权人： エルケム・シリコーンズ・フランス・エスアエス,ELKEM SILICONES France SAS,ユニヴェルシテ ド オート アルザス,Universite de Haute Alsace
- 当前专利权人： エルケム・シリコーンズ・フランス・エスアエス,ELKEM SILICONES France SAS,ユニヴェルシテ ド オート アルザス,Universite de Haute Alsace
- 当前专利权人地址： フランス国、エフ−69003・リヨン、アブニユ・ジヨルジユ・ポンピドー・21
- 代理人： アクシス国際特許業務法人
- 优先权： FR1700671 2017-06-22
- 国际申请： FR2018000177 JP 2018-06-21
- 国际公布： WO2018234643 JP 2018-12-27
- 主分类号： C08L83/07
- IPC分类号： C08L83/07 ; C08K5/45 ; C08K5/15 ; C07D311/86 ; C07D335/16 ; C08L83/05
摘要：
300〜450nmの波長の放射線への曝露により架橋可能なシリコーン組成物C1であって、 ケイ素原子に結合した少なくとも1つの(メタ)アクリレート基を含む少なくとも1種のポリオルガノシロキサンA、 それぞれ異なるケイ素原子に結合した少なくとも2個、好ましくは少なくとも3個の水素原子を含む少なくとも1種のオルガノハイドロジェンポリシロキサンH、及び 少なくとも1種の以下の式(I)のフリーラジカル光開始剤P: (式中、 記号Xは、酸素原子、硫黄原子、CH 2 基及びカルボニル基からなるグループから選択され、 記号R 2 及びR 4 は水素原子であり、 記号R 1 及びR 3 は、同一でも異なっていてもよく、水素原子、ヒドロキシル及び式−OZの基からなるグループから選択され、記号Oが酸素原子であり、記号Zが以下からなるグループから選択される: ■C 1 〜C 20 、好ましくはC 3 〜C 20 のアルキル基又はC 2 〜C 20 のアルケニル基; ■基−(C=O)−R 5 であって、基R 5 がC 1 〜C 20 のアルキル基、C 2 〜C 20 のアルケニル基、C 3 〜C 20 のシクロアルキル基及びC 6 〜C 12 のアリール基から選択される基;及び ■基−Si(R 6 ) 3 。ここで、基R 6 は同一でも異なっていてもよく、C 1 〜C 20 のアルキル基、C 2 〜C 20 のアルケニル基、C 3 〜C 20 のシクロアルキル基、C 6 〜C 12 のアリール基、C 1 〜C 20 のアルコキシル基及び水素原子から選択される基である。 ここで、置換基R 1 又はR 3 の少なくとも1つがヒドロキシル又は式−OZの基であるという条件がある。) を含む組成物C1。
公开/授权文献:
- JP6944549B2 フリーラジカル光開始剤及びシリコーン組成物におけるその使用 公开/授权日：2021-10-06