基本信息:
- 专利标题： 窒化ガリウム粒子およびその製造方法
- 专利标题（英）：GALLIUM NITRIDE PARTICLE AND MANUFACTURING METHOD THEREOF
- 申请号：JP2017117465 申请日：2017-06-15
- 公开(公告)号：JP2019001681A 公开(公告)日：2019-01-10
- 发明人： MESHIDA MASAMI , KURAMOCHI TOSHIHITO
- 申请人： TOSOH CORP
- 专利权人： TOSOH CORP
- 当前专利权人： TOSOH CORP
- 优先权： JP2017117465 2017-06-15
- 主分类号： C01B21/06
- IPC分类号： C01B21/06 ; C04B35/58 ; C23C14/34
摘要：
【課題】高密度、高強度な窒化ガリウムのスパッタリングターゲットが作製可能な酸素含有量が少なく成形性の高い窒化ガリウム粒子を提供する。【解決手段】酸化ガリウムと窒化ガリウムの混合粉末を1000〜1100℃の温度で、時間当たりのアンモニア反応量が投入したガリウム量に対し1倍モル以上の割合になるように反応させることにより、酸素含有量が1atm%以下であり、一次粒子の平均粒子径が5μm以上であり、粒度分布の最小粒子から10面積%の範囲の粒子径(10%粒子径)が3μm以下である窒化ガリウム粒子を得る。【選択図】なし
摘要（英）：
To provide a gallium nitride particle with low oxygen content and high formability capable of producing a sputtering target of gallium nitride with high density and high strength.SOLUTION: The gallium nitride particle can be obtained, having 1 atm% or less of an oxygen content, 5 μm or more of an average particle size of primary particles, and 3 μm or less of a particle diameter (10% particle diameter) at which an area of particle size distribution from the smallest particle reaches 10 area%, by reacting a mixed powder of gallium oxide and gallium nitride at a temperature of 1000 to 1100°C so that an amount of ammonia reacted per hour is 1 time or more molar with respect to an amount of gallium charged.SELECTED DRAWING: None
公开/授权文献:
- JP6953819B2 窒化ガリウム粒子およびその製造方法 公开/授权日：2021-10-27
信息查询:
EspacenetIPC结构图谱:
| C | 化学；冶金 |
| --C01 | 无机化学 |
| ----C01B | 非金属元素；其化合物 |
| ------C01B21/00 | 氮；其化合物 |
| --------C01B21/06 | .氮与金属、硅或硼的二元化合物 |