基本信息:
- 专利标题: 2−イミダゾリジンチオン化合物を含有するインジウム電気めっき組成物、及びインジウムを電気めっきする方法
- 专利标题(英):JP2018012889A - Indium electroplating composition containing 2-imidazolidinethione compound, and method for electroplating indium
- 申请号:JP2017128737 申请日:2017-06-30
- 公开(公告)号:JP2018012889A 公开(公告)日:2018-01-25
- 发明人: イー・チン , クリステン・フラジスリック , マーク・ルフェーヴル
- 申请人: ローム アンド ハース エレクトロニック マテリアルズ エルエルシー , Rohm and Haas Electronic Materials LLC
- 申请人地址: アメリカ合衆国、マサチューセッツ 01752、マールボロ、フォレスト・ストリート 455
- 专利权人: ローム アンド ハース エレクトロニック マテリアルズ エルエルシー,Rohm and Haas Electronic Materials LLC
- 当前专利权人: ローム アンド ハース エレクトロニック マテリアルズ エルエルシー,Rohm and Haas Electronic Materials LLC
- 当前专利权人地址: アメリカ合衆国、マサチューセッツ 01752、マールボロ、フォレスト・ストリート 455
- 代理人: 特許業務法人センダ国際特許事務所
- 优先权: US62/363,540 2016-07-18
- 主分类号: C25D5/10
- IPC分类号: C25D5/10 ; C25D5/12 ; C25D3/54
摘要:
【課題】半導体ウエハ及び熱伝導材料等の種々の基材の金属層上に平滑な表面形態を有する、欠陥を有しない均一なインジウム金属を電気めっきのために使用される組成物の提供。 【解決手段】式(I)で表す2−イミダゾリジンチオン化合物と、1つ以上のインジウムイオン源と、クエン酸、その塩又は混合物と、を含有するインジウム電気めっき組成物。 (R 1 及びR 2 は各々独立にH、直鎖/分岐のC 1 〜 12 のアルキル、直鎖/分岐のヒドロキシC 1 〜 12 のアルコキシ、アミノ、第1級/第2級/第3級アミノC 1 〜 12 のアルキル、直鎖/分岐のC 3 〜 12 のアリル等;R 3 〜R 6 は各々独立にH、直鎖/分岐のC 1 〜 12 のアルキル、ヒドロキシル、直鎖/分岐のヒドロキシC 1 〜 12 のアルキル、第1級/第2級/第3級アミノC 1 〜 12 のアルキル、アセチル等) 【選択図】なし
公开/授权文献:
- JP6427632B2 2−イミダゾリジンチオン化合物を含有するインジウム電気めっき組成物、及びインジウムを電気めっきする方法 公开/授权日:2018-11-21
信息查询:
EspacenetIPC结构图谱:
C | 化学;冶金 |
--C25 | 电解或电泳工艺;其所用设备 |
----C25D | 覆层的电解或电泳生产工艺方法;电铸;工件的电解法接合;所用的装置 |
------C25D5/00 | 以工艺方法为特征的电镀;工件的预处理或后处理 |
--------C25D5/10 | .一层以上相同金属或不同金属的电镀 |