基本信息:
- 专利标题： リソグラフィー用洗浄液及び洗浄方法
- 专利标题（英）：Cleaning solution for lithography and cleaning method
- 申请号：JP2016030348 申请日：2016-02-19
- 公开(公告)号：JP2017147416A 公开(公告)日：2017-08-24
- 发明人： 菅原 まい , 横井 滋
- 申请人： 東京応化工業株式会社
- 申请人地址： 神奈川県川崎市中原区中丸子150番地
- 专利权人： 東京応化工業株式会社
- 当前专利权人： 東京応化工業株式会社
- 当前专利权人地址： 神奈川県川崎市中原区中丸子150番地
- 代理人： 正林 真之
- 主分类号： C11D7/32
- IPC分类号： C11D7/32 ; C11D17/08 ; C11D7/50 ; C23G1/18 ; H01L21/027 ; H01L21/308 ; H01L21/304
摘要：
【課題】コバルト、銅及びこれらのいずれかの合金からなる群より選択される少なくとも1種の金属に対する腐食抑制機能に優れたリソグラフィー用洗浄液並びにこのリソグラフィー用洗浄液を用いて基板を洗浄する方法を提供する。 【解決手段】リソグラフィー用洗浄液は、塩基性化合物、水及び下記式(1a)で表されるイミダゾール化合物を含有する。 【選択図】なし
公开/授权文献:
- JP6630183B2 リソグラフィー用洗浄液及び洗浄方法 公开/授权日：2020-01-15
信息查询:
EspacenetIPC结构图谱:
| C | 化学；冶金 |
| --C11 | 动物或植物油、脂、脂肪物质或蜡；由此制取的脂肪酸；洗涤剂；蜡烛 |
| ----C11D | 洗涤剂组合物；用单一物质作为洗涤剂；皂或制皂；树脂皂；甘油的回收 |
| ------C11D7/00 | 主要以非表面活性化合物为基料的洗涤剂组合物 |
| --------C11D7/02 | .无机化合物 |
| ----------C11D7/32 | ..含氮的 |