基本信息:
- 专利标题： グラファイトプレート及びその製造方法
- 专利标题（英）：Graphite plate and manufacturing method thereof
- 专利标题（中）：石墨板及其制造方法
- 申请号：JP2016081746 申请日：2016-04-15
- 公开(公告)号：JP2017024972A 公开(公告)日：2017-02-02
- 发明人： 西木 直巳 , 西川 和宏 , 北浦 秀敏 , 田中 篤志 , 中谷 公明
- 申请人： パナソニックIPマネジメント株式会社
- 申请人地址： 大阪府大阪市中央区城見2丁目1番61号
- 专利权人： パナソニックIPマネジメント株式会社
- 当前专利权人： パナソニックIPマネジメント株式会社
- 当前专利权人地址： 大阪府大阪市中央区城見2丁目1番61号
- 代理人： 鎌田 健司; 前田 浩夫
- 优先权： JP2015141730 2015-07-16
- 主分类号： C01B32/205
- IPC分类号： C01B32/205
The present invention does not use a heat conducting paste, small graphite plate contact resistance and can provide a manufacturing method thereof.
A surface roughness of the graphite plates (Ra) is 10μm or more and less than 40 [mu] m, between the distance any 80mm in the surface of the graphite plate, the surface irregularities of the change rate with respect to distance 80mm, 0. 0.1% or more, using a graphite plate is less than 0.135%. Further, a method for producing a graphite plate heat-treating a polymer film in an inert gas, a heat treatment carried out in the polymer film, in an atmosphere of the inert gas, the temperature is at 3200 ° C. or less 2400 ° C. or higher, temperature 2000 ° C. or more 10 kg / cm
2 or more, using the production method of the graphite plates of the 100 kg / cm
2 or less of pressure.
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公开/授权文献:
- JP6793296B2 グラファイトプレート及びその製造方法 公开/授权日：2020-12-02