基本信息:
- 专利标题： 脱銅電解工程の給液装置
- 专利标题（英）：Liquid supplying device in copper removable electrolysis step
- 专利标题（中）：铜可拆卸电解液中的液体供应装置步骤
- 申请号：JP2014228757 申请日：2014-11-11
- 公开(公告)号：JP2016089259A 公开(公告)日：2016-05-23
- 发明人： 宮本 隆史 , 佐藤 勝輝 , 西川 勲
- 申请人： 住友金属鉱山株式会社
- 申请人地址： 東京都港区新橋5丁目11番3号
- 专利权人： 住友金属鉱山株式会社
- 当前专利权人： 住友金属鉱山株式会社
- 当前专利权人地址： 東京都港区新橋5丁目11番3号
- 代理人： 特許業務法人山内特許事務所
- 主分类号： C22B3/44
- IPC分类号： C22B3/44 ; C22B15/00 ; C22B23/00 ; C25C7/06
摘要：
【課題】脱銅電解給液の銅濃度を安定させることができる脱銅電解工程の給液装置を提供する。 【解決手段】混合槽41と、含銅塩化ニッケル溶液19を混合槽41に供給する第1主流路51と、希釈液18を混合槽41に供給する第2主流路52と、第1主流路51および第2主流路52に設けられた流量制御手段51v、52vと、含銅塩化ニッケル溶液19の銅濃度を吸光光度法により測定する比色計43と、比色計43の測定結果に基づき流量制御手段51v、52vを制御する制御装置44とを備える。含銅塩化ニッケル溶液19の銅濃度を比色計43で測定するので測定頻度を高くすることができる。比色計43の測定結果に基づき流量制御手段51v、52vを制御することで脱銅電解給液22の銅濃度を自動で調整できる。そのため、脱銅電解給液22の銅濃度を安定させることができる。 【選択図】図1
摘要（中）：
要解决的问题：提供一种能够稳定铜可移除电解液中铜浓度的铜可去除电解步骤中的液体供应装置。解决方案：铜可移除电解步骤中的液体供应装置包括：混合罐41; 用于向混合槽41供给含铜氯化镍溶液19的第一主流路51; 用于将稀释剂18供给到混合槽41的第二主流路52; 设置在第一主流路51和第二主流路52上的流量控制单元51v，52v; 用于测量含铜氯化镍溶液19的铜浓度的比色计43; 以及控制装置44，用于根据比色计43的测定结果控制流量控制装置51v，52v。通过色度计43测定含铜氯化镍溶液19的铜浓度，测定频率可以为 增加。 通过基于比色计43的测量结果控制流量控制装置51v和52v，可以自动调节铜可移除电解液供给液22的铜浓度。 因此，铜可移除电解液供给液22的铜浓度可以稳定
公开/授权文献:
- JP6222048B2 脱銅電解工程の給液装置 公开/授权日：2017-11-01
信息查询:
EspacenetIPC结构图谱:
| C | 化学；冶金 |
| --C22 | 冶金（铁的冶金入C21）；黑色或有色金属合金；合金或有色金属的处理 |
| ----C22B | 金属的生产或精炼；原材料的预处理 |
| ------C22B3/00 | 用湿法从矿石或精矿中提取金属化合物 |
| --------C22B3/20 | .溶液（例如通过浸取制得的）的处理或净化 |
| ----------C22B3/44 | ..通过化学方法 |