基本信息:
- 专利标题： 含窒素複素環化合物の製造方法
- 专利标题（英）：Method of producing nitrogen-containing heterocyclic compound
- 专利标题（中）：生产含氮杂环化合物的方法
- 申请号：JP2014047821 申请日：2014-03-11
- 公开(公告)号：JP2015172008A 公开(公告)日：2015-10-01
- 发明人： 小林 修 , ユー ウージン , 今泉 崇紀 , 堂野前 等 , 山根 典之
- 申请人： 国立大学法人 東京大学 , 新日鐵住金株式会社
- 申请人地址： 東京都文京区本郷七丁目3番1号
- 专利权人： 国立大学法人 東京大学,新日鐵住金株式会社
- 当前专利权人： 国立大学法人 東京大学,新日鐵住金株式会社
- 当前专利权人地址： 東京都文京区本郷七丁目3番1号
- 代理人： 佐々木 一也; 成瀬 勝夫; 中村 智廣
- 主分类号： C07D265/18
- IPC分类号： C07D265/18
摘要：
【課題】医薬、農薬、合成樹脂の添加剤等の多くの分野で合成中間体等として有用な含窒素複素環化合物を、容易にかつ収率良く製造できる化合物の製造方法の提供。 【解決手段】式(1)で表わされるオルト置換アジ化ベンゼン誘導体を、還元剤の存在下に二酸化炭素と反応させ、式(2)で表わされる化合物を得る製造方法。 〔RはH及び/又は置換基;Aは分子内環化可能基;Bは2価のC,N,Oの結合基〕 【選択図】なし
摘要（中）：
要解决的问题：提供一种化合物制备方法，其可以在医药，农业和合成树脂添加剂等许多领域中实现用作合成中间体等的含氮杂环化合物的容易且高产率的生产。解决方案：在 制备方法，将由式（1）表示的邻位取代的苯叠氮化物衍生物在还原剂存在下与二氧化碳反应，得到式（2）表示的化合物。 [R是H和/或取代基; A是分子内可环化基团; B是C，N和O的二价连接基团。
公开/授权文献:
- JP6289177B2 含窒素複素環化合物の製造方法 公开/授权日：2018-03-07
信息查询:
EspacenetIPC结构图谱:
| C | 化学；冶金 |
| --C07 | 有机化学 |
| ----C07D | 杂环化合物 |
| ------C07D265/00 | 杂环化合物，含六元环，有1个氮原子和1个氧原子作为仅有的杂环原子 |
| --------C07D265/04 | .1,3-嗪；氢化1,3-嗪 |
| ----------C07D265/06 | ..不与其他环稠合 |
| ------------C07D265/14 | ...和1个六元环稠合 |
| --------------C07D265/18 | ....有杂原子直接连在位置2上 |