基本信息:
- 专利标题： Compound and acid generator comprising the same
- 专利标题（中）：包含该化合物和酸的发生器
- 申请号：JP2014099069 申请日：2014-05-12
- 公开(公告)号：JP2014185157A 公开(公告)日：2014-10-02
- 发明人： KAWAKAMI AKINARI , UTSUMI YOSHIYUKI , ABE SHO
- 申请人： Tokyo Ohka Kogyo Co Ltd , 東京応化工業株式会社
- 专利权人： Tokyo Ohka Kogyo Co Ltd,東京応化工業株式会社
- 当前专利权人： Tokyo Ohka Kogyo Co Ltd,東京応化工業株式会社
- 优先权： JP2008252212 2008-09-30
- 主分类号： C07C381/12
- IPC分类号： C07C381/12 ; C07C309/06 ; C07C309/12 ; C09K3/00 ; G03F7/004
摘要：
PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a new compound useful as an acid generator for a resist composition, and an acid generator comprising the compound.SOLUTION: The compound is expressed by general formula (b1-11) shown below. In formula (b1-11), R" to R" each independently represent an aryl group or an alkyl group, any two in R" to R" may be bonded to each other to form a ring together with a sulfur atom in the formula, and at least one in R" to R" is a substituted aryl group having a group expressed by general formula (I) shown below as a substituent; and Xrepresents an anion. In formula (I), Rrepresents a hydrogen atom or a fluorinated alkyl group; Rrepresents a hydrogen atom, an alkyl group or a fluorinated alkyl group; f represents 0 or 1; and h represents 1 or 2.
摘要（中）：
要解决的问题：提供可用作抗蚀剂组合物的酸发生剂的新化合物和包含该化合物的酸产生剂。溶液：该化合物由下述通式（b1-11）表示。 在式（b1-11）中，R“至R”各自独立地表示芳基或烷基，R“至R”中的任意两个可以彼此键合，与式中的硫原子一起形成环 ，R“〜R”中的至少一个为具有下述通式（I）表示的基团的取代芳基作为取代基; X表示阴离子。 在式（I）中，R表示氢原子或氟代烷基; R表示氢原子，烷基或氟代烷基; f表示0或1; h表示1或2。
公开/授权文献:
- JP5752832B2 化合物及びそれからなる酸発生剤 公开/授权日：2015-07-22
信息查询:
EspacenetIPC结构图谱:
| C | 化学；冶金 |
| --C07 | 有机化学 |
| ----C07C | 无环或碳环化合物 |
| ------C07C381/00 | 含碳和硫并且有不包括在C07C310/00至C07C337/00组中的官能团的化合物 |
| --------C07C381/12 | .锍化物 |