基本信息:
- 专利标题： Optical configuration of the microlithography projection exposure apparatus
- 申请号：JP2012531331 申请日：2010-09-23
- 公开(公告)号：JP2013506978A 公开(公告)日：2013-02-28
- 发明人： シェーパッハ アルミン , マン ハンス‐ユルヘン , アイサート フランク , ブン パトリック クワン イム
- 申请人： カール・ツァイス・エスエムティー・ゲーエムベーハー
- 专利权人： カール・ツァイス・エスエムティー・ゲーエムベーハー
- 当前专利权人： カール・ツァイス・エスエムティー・ゲーエムベーハー
- 优先权： DE102009045163 2009-09-30
- 主分类号： H01L21/027
- IPC分类号： H01L21/027 ; G03F7/20
摘要：
本発明は、特に、少なくとも１つの光学素子（１１０、２１０）及び光学素子（１１０、２１０）用の支持要素（１２０、２２０）を備えるマイクロリソグラフィ投影露光装置の光学構成体であって、光学素子（１１０、２１０）及び支持要素（１２０、２２０）が少なくとも３つのデカップリング要素（１３１、１３２、１３３；２３１、２３２、２３３）により相互に接続され、該デカップリング要素（１３１、１３２、１３３；２３１、２３２、２３３）が光学素子（１１０、２１０）及び支持要素（１２０、２２０）と一体的に形成される光学構成体に関する。
【選択図】図１
摘要（英）：
【選択図】図１
The present invention is particularly, an optical structure of a microlithographic projection exposure apparatus comprising at least one optical element (110, 210) and support element for an optical element (110, 210) (120, 220), the optical element (110, 210) and support elements (120, 220) is at least three of the decoupling element; are connected to each other by a (131, 132, 133 231, 232 and 233), the decoupling elements (131, 132, 133; 231, 232, 233) is an optical structure which is integrally formed with the optical element (110, 210) and support elements (120, 220).
.FIELD 1
公开/授权文献:
信息查询:
EspacenetIPC结构图谱:
| H | 电学 |
| --H01 | 基本电气元件 |
| ----H01L | 半导体器件；其他类目未包含的电固体器件 |
| ------H01L21/00 | 专门适用于制造或处理半导体或固体器件或其部件的方法或设备 |
| --------H01L21/02 | .半导体器件或其部件的制造或处理 |
| ----------H01L21/027 | ..未在H01L21/18或H01L21/34组中包含的为进一步的光刻工艺在半导体之上制作掩膜 |