基本信息:
- 专利标题： Neutron optical system
- 专利标题（中）：NEUTRON光学系统
- 申请号：JP2010236859 申请日：2010-10-21
- 公开(公告)号：JP2012088251A 公开(公告)日：2012-05-10
- 发明人： EZOE YUICHIRO , TAKAHASHI TADAYUKI , MITSUDA KAZUHISA , KATO MASAHIRO
- 申请人： Japan Aerospace Exploration Agency , Mitsubishi Heavy Ind Ltd , Tokyo Metropolitan Univ , 三菱重工業株式会社 , 公立大学法人首都大学東京 , 独立行政法人 宇宙航空研究開発機構
- 专利权人： Japan Aerospace Exploration Agency,Mitsubishi Heavy Ind Ltd,Tokyo Metropolitan Univ,三菱重工業株式会社,公立大学法人首都大学東京,独立行政法人 宇宙航空研究開発機構
- 当前专利权人： Japan Aerospace Exploration Agency,Mitsubishi Heavy Ind Ltd,Tokyo Metropolitan Univ,三菱重工業株式会社,公立大学法人首都大学東京,独立行政法人 宇宙航空研究開発機構
- 优先权： JP2010236859 2010-10-21
- 主分类号： G21K1/06
- IPC分类号： G21K1/06 ; A61N5/10 ; G01N23/222 ; G21K1/00
摘要：
PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a neutron optical system which is easily manufactured, is a lightweight neutron condensation imaging system with excellent imaging performance, and has dramatically improved reflectance and energy band.SOLUTION: An atomic layer deposition method is used so as to deposit a reflection film with a precision at a sub-nm level on a sidewall with a curved surface hole structure which is manufactured in silicon or nickel being a material with a fine structure body by micromachining technology. Consequently, there is provided the neutron optical system with dramatically improved reflectance and energy band.
摘要（中）：
要解决的问题：为了提供容易制造的中子光学系统，是具有优异成像性能的轻质中子冷凝成像系统，并且具有显着提高的反射率和能带。 解决方案：使用原子层沉积方法以在具有弯曲表面孔结构的侧壁上沉积具有亚纳米级精度的反射膜，所述弯曲表面孔结构在硅或镍中制造为具有微细的材料 结构体采用微加工技术。 因此，提供了具有显着提高的反射率和能带的中子光学系统。 版权所有（C）2012，JPO＆INPIT
公开/授权文献:
- JP5751573B2 中性子の集光および結像光学系、ならびにその製造方法 公开/授权日：2015-07-22
信息查询:
EspacenetIPC结构图谱:
| G | 物理 |
| --G21 | 核物理；核工程 |
| ----G21K | 未列入其他类目的粒子或电磁辐射的处理技术；照射装置；γ射线或X射线显微镜 |
| ------G21K1/00 | 辐射或粒子的处理装置，如聚焦、慢化 |
| --------G21K1/06 | .应用衍射、折射或反射，如单色仪 |