发明专利
JP2008019489A Method for forming zirconia film, method for covering cutting tool for hard alloy, and cutting tool for hard alloy
审中-公开
基本信息:
- 专利标题： Method for forming zirconia film, method for covering cutting tool for hard alloy, and cutting tool for hard alloy
- 专利标题（中）：形成ZIRCONIA膜的方法，用于硬化合金的切割工具的方法和用于硬质合金的切割工具
- 申请号：JP2006193897 申请日：2006-07-14
- 公开(公告)号：JP2008019489A 公开(公告)日：2008-01-31
- 发明人： SHIMADA SHIRO , TSUJINO JIRO , YAMAZAKI ISAO , TSUDA KEIICHI
- 申请人： Hokkaido Electric Power Co Inc:The , Hokkaido Sumiden Seimitsu Kk , Hokkaido Univ , Sumitomo Electric Hardmetal Corp , 住友電工ハードメタル株式会社 , 北海道住電精密株式会社 , 北海道電力株式会社 , 国立大学法人 北海道大学
- 专利权人： Hokkaido Electric Power Co Inc:The,Hokkaido Sumiden Seimitsu Kk,Hokkaido Univ,Sumitomo Electric Hardmetal Corp,住友電工ハードメタル株式会社,北海道住電精密株式会社,北海道電力株式会社,国立大学法人 北海道大学
- 当前专利权人： Hokkaido Electric Power Co Inc:The,Hokkaido Sumiden Seimitsu Kk,Hokkaido Univ,Sumitomo Electric Hardmetal Corp,住友電工ハードメタル株式会社,北海道住電精密株式会社,北海道電力株式会社,国立大学法人 北海道大学
- 优先权： JP2006193897 2006-07-14
- 主分类号： C23C16/40
- IPC分类号： C23C16/40 ; B23B27/14 ; C23C16/513
摘要：
PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a method for forming a zirconia film with the use of a thermal plasma CVD technique. SOLUTION: The method for forming the zirconia film includes supplying water to a plasma flame when forming the zirconia film on the surface of a substrate with the thermal plasma CVD technique, while using a metal alkoxide solution containing zirconium alkoxide as an essential component, as a raw material. COPYRIGHT: (C)2008,JPO&INPIT
摘要（中）：
待解决的问题：提供使用热等离子体CVD技术形成氧化锆膜的方法。 解决方案：形成氧化锆膜的方法包括在用等离子体CVD技术在基板的表面上形成氧化锆膜时向等离子体火焰供水，同时使用含有烷氧基锆作为主要成分的金属醇盐溶液 ，作为原料。 版权所有（C）2008，JPO＆INPIT