发明专利
JP2005524514A Electromagnetic wave generation of high electric field strength, and processing of materials, for example, weakening of the multi-phase material
审中-公开
基本信息:
- 专利标题： Electromagnetic wave generation of high electric field strength, and processing of materials, for example, weakening of the multi-phase material
- 申请号：JP2003580579 申请日：2003-04-01
- 公开(公告)号：JP2005524514A 公开(公告)日：2005-08-18
- 发明人： キングマン．サミュエル．ウィリアム
- 申请人： ザ ユニバーシティ オブ ノッティンガム
- 专利权人： ザ ユニバーシティ オブ ノッティンガム
- 当前专利权人： ザ ユニバーシティ オブ ノッティンガム
- 优先权： GB0207530 2002-04-02
- 主分类号： H05B6/80
- IPC分类号： H05B6/80 ; B02C19/18 ; C22B1/00 ; C22B4/00 ; H05B6/78
摘要：
【課題】 多相材料（２００）に対する後続作業に先立つ、材料（２００）のマイクロ波前処理方法である。
【解決手段】 材料（２００）は第１相の材料及び第２相の材料を有すること。 この方法は、前記材料を電磁、好ましくはマイクロ波（２０２）で、加熱し、材料（２００）が電磁、好ましくはマイクロ波、処理領域（２１２）を通過する連続プロセスの中で少なくとも１０
９ Ｗｍ
−３ の出力密度を発生することを含む。 材料（２００）は、材料（２００）が後続作業のために処理領域（２１２）から出される前に、処理領域（２１２）の中で約１／２秒以下の時間、マイクロ波（２０２）の曝露を受ける。
摘要（英）：
【解決手段】 材料（２００）は第１相の材料及び第２相の材料を有すること。 この方法は、前記材料を電磁、好ましくはマイクロ波（２０２）で、加熱し、材料（２００）が電磁、好ましくはマイクロ波、処理領域（２１２）を通過する連続プロセスの中で少なくとも１０
９ Ｗｍ
−３ の出力密度を発生することを含む。 材料（２００）は、材料（２００）が後続作業のために処理領域（２１２）から出される前に、処理領域（２１２）の中で約１／２秒以下の時間、マイクロ波（２０２）の曝露を受ける。
The present invention prior to subsequent work on multi-phase material (200), a microwave pre-treatment method of the material (200).
A material (200) having a material and a second phase of material of the first phase. The method electromagnetic said material, preferably a microwave (202), heating the material (200) is electromagnetic, preferably microwave, at least
10. 9 Wm in the continuous process of passing through the processing region (212) It includes generating a power density of
-3. Material of (200), the material before (200), which is issued from the processing area (212) for subsequent work, about one-half second or less time in the processing region (212), microwave (202) subject to exposure.
信息查询:
EspacenetIPC结构图谱:
| H | 电学 |
| --H05 | 其他类目不包含的电技术 |
| ----H05B | 电热；其他类目不包含的电照明 |
| ------H05B6/00 | 通过电场、磁场或电磁场加热的 |
| --------H05B6/02 | .感应加热 |
| ----------H05B6/80 | ..用于特定应用的设备 |