基本信息:

• 专利标题： Plasma monitoring system
• 申请号：GB201802848 申请日：2018-02-22
• 公开(公告)号：GB201802848D0 公开(公告)日：2018-04-11
• 申请人： GENCOA LTD
• 专利权人： GENCOA LTD
• 当前专利权人： GENCOA LTD
• 优先权： GB201802848 2018-02-22

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