基本信息:

• 专利标题： SUBSTRATE HOLDER FOR USE IN A LITHOGRAPHIC APPARATUS AND A METHOD OF MANUFACTURING A SUBSTRATE HOLDER
• 申请号：EP21729829.8 申请日：2021-05-25
• 公开(公告)号：EP4162324A1 公开(公告)日：2023-04-12
• 发明人： DE GROOT, Antonius, Franciscus, Johannes , AKBAS, Mehmet, Ali , CIFTCI SANDIKCI, Aysegul , DENG, Jerry, Jianguo , NEKLYUDOVA, Mariya , MAYER, Ryan , GUPTA, Sonia , STENEKEN, Ryan, Charles , VAN DE WINKEL, Jimmy, Matheus, Wilhelmus , OLEXOVITCH, Christopher M. , PERRY, Michael
• 申请人： ASML Netherlands B.V. ,  ASML Holding N.V.
• 申请人地址： NL 5500 AH Veldhoven P.O. Box 324; NL 5500 AH Veldhoven P.O. Box 324
• 代理机构： ASML Netherlands B.V.
• 优先权： US202063036028 P 20200608
• 国际公布： WO2021249768 20211216
• 主分类号： G03F7/20
• IPC分类号： G03F7/20 ; H01L21/687

信息查询: