
基本信息:
- 专利标题: SYSTEM AND METHOD FOR RADIATION EXPOSURE CONTROL
- 申请号:EP19824568.0 申请日:2019-06-27
- 公开(公告)号:EP3799623A1 公开(公告)日:2021-04-07
- 发明人: LIANG, Kan , LI, Wei , TANG, Dingche , WANG, Yan
- 申请人: Shanghai United Imaging Healthcare Co., Ltd.
- 申请人地址: CN Shanghai 201807 IP Dept. HQ No.2258 Chengbei Rd. Jiading Industrial District
- 当前专利权人: SHANGHAI UNITED IMAGING HEALTHCARE CO., LTD.
- 当前专利权人地址: SHANGHAI UNITED IMAGING HEALTHCARE CO., LTD.
- 代理机构: Wang, Bo
- 优先权: CN201810676483 20180627
- 国际公布: WO2020001571 20200102
- 主分类号: G01N23/04
- IPC分类号: G01N23/04
公开/授权文献:
- EP3799623B1 SYSTEM AND METHOD FOR RADIATION EXPOSURE CONTROL 公开/授权日:2024-10-09
IPC结构图谱:
G | 物理 |
--G01 | 测量;测试 |
----G01N | 借助于测定材料的化学或物理性质来测试或分析材料 |
------G01N23/00 | 利用未包括在G01N21/00或G01N22/00组内的波或粒子辐射来测试或分析材料,例如X射线、中子 |
--------G01N23/02 | .通过使辐射透过材料 |
----------G01N23/04 | ..并形成图像 |