发明公开
EP3095126A1 ENDBLOCK FOR ROTATABLE TARGET WITH ELECTRICAL CONNECTION BETWEEN COLLECTOR AND ROTOR AT PRESSURE LESS THAN ATMOSPHERIC PRESSURE
有权
基本信息:
- 专利标题： ENDBLOCK FOR ROTATABLE TARGET WITH ELECTRICAL CONNECTION BETWEEN COLLECTOR AND ROTOR AT PRESSURE LESS THAN ATMOSPHERIC PRESSURE
- 专利标题（中）：支持与收藏家之间的转子和电连接，在真空中旋转靶材
- 申请号：EP14827991.2 申请日：2014-12-30
- 公开(公告)号：EP3095126A1 公开(公告)日：2016-11-23
- 发明人： GALAN, Gilbert , USELDING, Jean-Philippe , COMANS, Guy , SCHLOREMBERG, Marcel
- 申请人： Guardian Europe S.à.r.l. , Guardian Industries Corp.
- 申请人地址： Atrium Business Park Extimus Building 19, rue du Puits Romain 8070 Bertrange LU
- 专利权人： Guardian Europe S.à.r.l.,Guardian Industries Corp.
- 当前专利权人： Guardian Europe S.à.r.l.,Guardian Industries Corp.
- 当前专利权人地址： Atrium Business Park Extimus Building 19, rue du Puits Romain 8070 Bertrange LU
- 代理机构： Hess, Peter K. G.
- 优先权： US201414153658 20140113
- 国际公布： WO2015105711 20150716
- 主分类号： H01J37/34
- IPC分类号： H01J37/34 ; H01J37/32 ; C23C14/35
摘要：
An endblock (4) for a rotatable sputtering target (1), such as a rotatable magnetron sputtering target, is provided. A sputtering apparatus, including one or more such endblock(s), includes locating the electrical contact(s) (e.g., brush(es)) (18) between the collector (20) and rotor (22) in the endblock(s) in an area (8) under vacuum (as opposed to in an area (9) at atmospheric pressure).
摘要（中）：
在endblockcompatible用于可旋转基溅射靶，检查作为可旋转的基座磁控管溅射靶中，提供。 的溅镀装置，其中包括一个或多个搜索endblockcompatible（S），包括定位在真空下在集电极和转子之间的电接触（一个或多个）（例如，刷（ES）），在端嵌段（S）中的区域（相对于 在在大气压下面积）。