EP2302456B1 POSITIVE RESIST COMPOSITION;PATTTERN FORMING METHOD; MICROLENS AND PLANARIZATION FILM THEREFROM; SOLID-STATE IMAGING DEVICE, LIQUID CRYSTAL DISPLAY DEVICE AND LED DISPLAY DEVICE COMPRISING THE SAME
有权
基本信息:
- 专利标题： POSITIVE RESIST COMPOSITION;PATTTERN FORMING METHOD; MICROLENS AND PLANARIZATION FILM THEREFROM; SOLID-STATE IMAGING DEVICE, LIQUID CRYSTAL DISPLAY DEVICE AND LED DISPLAY DEVICE COMPRISING THE SAME
- 专利标题（中）：正光刻胶组合; 结构教育过程; 微透镜和平坦化膜物; 固态图像装置，液晶显示装置及LED显示装置
- 申请号：EP09797841.5 申请日：2009-07-07
- 公开(公告)号：EP2302456B1 公开(公告)日：2015-09-02
- 发明人： YUKAWA, Shojiro , KISHIOKA, Takahiro , SAKAGUCHI, Takahiro , SODA, Hiroyuki
- 申请人： Nissan Chemical Industries, Ltd.
- 申请人地址： 7-1 Kanda-Nishiki-cho 3-chome Chiyoda-ku Tokyo 101-0054 JP
- 专利权人： Nissan Chemical Industries, Ltd.
- 当前专利权人： Nissan Chemical Industries, Ltd.
- 当前专利权人地址： 7-1 Kanda-Nishiki-cho 3-chome Chiyoda-ku Tokyo 101-0054 JP
- 代理机构： Von Kreisler Selting Werner - Partnerschaft von Patentanwälten und Rechtsanwälten mbB
- 优先权： JP2008184524 20080716
- 国际公布： WO2010007915 20100121
- 主分类号： G03F7/023
- IPC分类号： G03F7/023 ; G02B3/00 ; G03F7/09 ; G03F7/40