基本信息:
- 专利标题： POSITIVE-TYPE RESIST COMPOSITION, AND METHOD FOR PRODUCTION OF MICROLENS
- 专利标题（中）：正光刻胶组合; 结构教育过程; 微透镜和平坦化膜物; 固态图像装置，液晶显示装置及LED显示装置
- 申请号：EP09797841.5 申请日：2009-07-07
- 公开(公告)号：EP2302456A1 公开(公告)日：2011-03-30
- 发明人： YUKAWA, Shojiro , KISHIOKA, Takahiro , SAKAGUCHI, Takahiro , SODA, Hiroyuki
- 申请人： Nissan Chemical Industries, Ltd.
- 申请人地址： 7-1 Kanda-Nishiki-cho 3-chome Chiyoda-ku Tokyo 101-0054 JP
- 专利权人： Nissan Chemical Industries, Ltd.
- 当前专利权人： Nissan Chemical Industries, Ltd.
- 当前专利权人地址： 7-1 Kanda-Nishiki-cho 3-chome Chiyoda-ku Tokyo 101-0054 JP
- 代理机构： von Kreisler Selting Werner
- 优先权： JP2008184524 20080716
- 国际公布： WO2010007915 20100121
- 主分类号： G03F7/023
- IPC分类号： G03F7/023 ; C08F12/32 ; G02B1/04 ; G02B3/00 ; G02F1/1333 ; G03F7/004
摘要：
There is provided a positive resist composition excellent in transparency, heat resistance, and refractive index particularly for forming a microlens and for forming a planarization film; and a microlens and a planarization film formed from the positive resist composition. A positive resist composition comprising a component (A): an alkali-soluble polymer comprising a unit structure having a biphenyl structure; a component (B): a compound having an organic group to be photolyzed to generate an alkali-soluble group; and a component (C): a solvent. The positive resist composition wherein the alkali-soluble polymer as the component (A) is a polymer comprising a unit structure of Formula (1):
where when the total number of unit structures constituting the polymer (A) is assumed to be 1.0, the ratio n1 of the unit structure of Formula (1) constituting the polymer (A) satisfies 0.3≤n1≤1.0.
摘要（中）：
where when the total number of unit structures constituting the polymer (A) is assumed to be 1.0, the ratio n1 of the unit structure of Formula (1) constituting the polymer (A) satisfies 0.3≤n1≤1.0.
本发明提供一种正型抗蚀剂具有优异的透明性，耐热性，和折射率的组合物特别是用于形成微透镜和形成平坦化膜 - ; 以及微透镜和平坦化膜形成为从正型抗蚀剂组合物。 一种正型抗蚀组合物，含有（A）成分：碱可溶性聚合物，其包含具有联苯结构的结构单元; 成分（B）：具有有机基团的化合物进行光分解而产生碱溶性基团; 和组分（C）：溶剂。 的正型抗蚀剂组合物worin的碱溶性聚合物作为组分（A）是包含式结构单元的聚合物（1）：其中，当假定构成聚合物（A）的结构单元的总数设为1.0时， （1）构成式单元结构的比N1的聚合物（A）SATIS外资企业0.3‰‰¤1.0¤n1。