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EP2116901A1 Hochauflösendes Fotoplottverfahren und Anordnung zur hochauflösenden Aufzeichnung eines computergespeicherten Rasterbildes auf einen ebenen lichtempfindlichen Aufzeichnungsträger
有权
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基本信息:
- 专利标题: Hochauflösendes Fotoplottverfahren und Anordnung zur hochauflösenden Aufzeichnung eines computergespeicherten Rasterbildes auf einen ebenen lichtempfindlichen Aufzeichnungsträger
- 专利标题(英):High resolution photo plot method and assembly for recording a high resolution halftone image stored on a computer on a level photosensitive recording medium
- 专利标题(中):高分辨率Fotoplottverfahren和布置用于高分辨率-记录一个计算机存储的光栅图像到平坦感光载体
- 申请号:EP09005359.6 申请日:2009-04-15
- 公开(公告)号:EP2116901A1 公开(公告)日:2009-11-11
- 发明人: Pagan, Robin
- 申请人: MIVA Technologies GmbH
- 申请人地址: Benzstrasse 17 71101 Schönaich DE
- 专利权人: MIVA Technologies GmbH
- 当前专利权人: MIVA TECHNOLOGIES GMBH, DE
- 当前专利权人地址: MIVA TECHNOLOGIES GMBH, DE
- 代理机构: Blutke, Klaus Wilhelm
- 优先权: DE102008022253 20080506
- 主分类号: G03F7/20
- IPC分类号: G03F7/20 ; G03B27/32 ; H04N1/195
摘要:
Das aufzuzeichnende Rasterbild T (Gesamtbild) wird computerprogrammgesteuert bildpunktweise als Folge von Teilbildern (T1, T2, T3, T4,...) aufgezeichnet auf einen sich in Richtung v durch eine Belichtungsstation hindurchbewegenden Aufzeichnungsträger (1).
Alle Bildpunkte eines Teilbildes werden gleichzeitig aufgezeichnet.
Die Teilbilder werden zu Blitzzeitpunkten (t1, t2, t3, t4 ...) aufgezeichnet, zu denen sich der Aufzeichnungsträger (1) in y-Richtung um jeweils eine äquidistante y-Verschiebe-Strecke weiterbewegt hat. Die Länge der y-Verschiebestrecke schließt immer einen Bruchteil der Länge einer Bildpunktseite ein. Sie ist kleiner oder größer als die Seitenlänge eines Bildpunktes.
In einem Teilbild werden bestimmte Bildpunkte in x - Richtung optisch versetzt - bezogen auf gedachte unversetzt aufgezeichnete Bildpunkte- aufgezeichnet , wobei der x-Versatz eines Bildpunktes kleiner ist als die Seitenlänge eines Bildpunktes.
Die Bildaufzeichnung erfolgt mittels einer Licht-Steuer-Einheit , vorzugsweise einem Kippspiegel-Elemente-Halbleiter-Chip, mit matrixartig angeordneten Licht-Steuer-Elementen. Die Lichtsteuer-Einheit wird für die Aufzeichnung jedes Teilbildes computerprogrammgesteuert mit einem entsprechenden Steuermuster geladen. Bei Belichtung der Licht-Steuer-Einheit bewirken - entsprechend dem Steuermuster in Verbindung mit einer optischen Ablenkeinheit - die von den Licht-SteuerElementen ausgehenden Lichtstrahlen eine unversetzte oder in x-Richtung versetzte Aufzeichnung von Lichtpunkten. Durch Überlagerung eiander überlappender Bildpunkte ergeben sich kleine Bildelemente, (kleiner als Bildpunkte), aus denen das Rasterbild zusammengesetzt scheint. Daraus resultiert eine höhere Auflösung des aufgezeichneten Rasterbildes.
Die Erfindung dient insbesondere der Erstellung fotographischer Vorlagen mit höchster Auflösung für gedruckte Leiterplatten, der Direktbelichtung von Leiterplattenmaterial u.ä. und der Erstellung dreidimensionaler Strukturen für optische Elemente.
摘要(中):
Alle Bildpunkte eines Teilbildes werden gleichzeitig aufgezeichnet.
Die Teilbilder werden zu Blitzzeitpunkten (t1, t2, t3, t4 ...) aufgezeichnet, zu denen sich der Aufzeichnungsträger (1) in y-Richtung um jeweils eine äquidistante y-Verschiebe-Strecke weiterbewegt hat. Die Länge der y-Verschiebestrecke schließt immer einen Bruchteil der Länge einer Bildpunktseite ein. Sie ist kleiner oder größer als die Seitenlänge eines Bildpunktes.
In einem Teilbild werden bestimmte Bildpunkte in x - Richtung optisch versetzt - bezogen auf gedachte unversetzt aufgezeichnete Bildpunkte- aufgezeichnet , wobei der x-Versatz eines Bildpunktes kleiner ist als die Seitenlänge eines Bildpunktes.
Die Bildaufzeichnung erfolgt mittels einer Licht-Steuer-Einheit , vorzugsweise einem Kippspiegel-Elemente-Halbleiter-Chip, mit matrixartig angeordneten Licht-Steuer-Elementen. Die Lichtsteuer-Einheit wird für die Aufzeichnung jedes Teilbildes computerprogrammgesteuert mit einem entsprechenden Steuermuster geladen. Bei Belichtung der Licht-Steuer-Einheit bewirken - entsprechend dem Steuermuster in Verbindung mit einer optischen Ablenkeinheit - die von den Licht-SteuerElementen ausgehenden Lichtstrahlen eine unversetzte oder in x-Richtung versetzte Aufzeichnung von Lichtpunkten. Durch Überlagerung eiander überlappender Bildpunkte ergeben sich kleine Bildelemente, (kleiner als Bildpunkte), aus denen das Rasterbild zusammengesetzt scheint. Daraus resultiert eine höhere Auflösung des aufgezeichneten Rasterbildes.
Die Erfindung dient insbesondere der Erstellung fotographischer Vorlagen mit höchster Auflösung für gedruckte Leiterplatten, der Direktbelichtung von Leiterplattenmaterial u.ä. und der Erstellung dreidimensionaler Strukturen für optische Elemente.
该方法包括在x产生具有图像点的栅格图案或y通过照射与计算机程序的控制图案撞击的光控制单元的坐标对齐。 一种记录介质(1)的相对的在等距ý周围移位到光控制单元在y方向上为每个照明点滑动部。 滑动部包括:图像点的边的长度的一小部分。 一个独立的claimsoft被包括在安排上记录的计算机存储的帧,即使光敏感记录载体如在x或y中的像素坐标调整。