基本信息:
- 专利标题： DISCHARGE PRODUCED PLASMA EUV LIGHT SOURCE
- 专利标题（中）：放电产生血浆EUV光源
- 申请号：EP04716949.5 申请日：2004-03-03
- 公开(公告)号：EP1602116A2 公开(公告)日：2005-12-07
- 发明人： PARTLO, William, N. , BLUMENSTOCK, Gerry, M. , BOWERING, Norbert , BRUZZONE, Kent, A. , COBB, Dennis W. , DYER, Timothy, S. , DUNLOP, John , FOMENKOV, Igor, V. , HYSHAM, James, Christopher , OLIVER, Roger, I. , PALENSCHAT, Frederick, A. , PAN, Xiaojiang, J. , RETTIG, Curtis, L. , SIMMONS, Rodney, S. , WALKER, John , WEBB, Kyle, R. , HOFMANN, Thomas , KHODYKIN, Oleh
- 申请人： Cymer, Inc.
- 申请人地址： 17075 Thornmint Court San Diego, CA 92127 US
- 专利权人： Cymer, Inc.
- 当前专利权人： Cymer, Inc.
- 当前专利权人地址： 17075 Thornmint Court San Diego, CA 92127 US
- 代理机构： Grünecker, Kinkeldey, Stockmair & Schwanhäusser Anwaltssozietät
- 优先权： US384967 20030308; US409254 20030408; US742233 20031218
- 国际公布： WO2004081503 20040923
- 主分类号： H01J1/52
- IPC分类号： H01J1/52
摘要：
An EUV source (20) includes a debris mitigation apparatus (60) employing a metal halogen gas producing a metal halide from debris exiting the plasma, a debris shield (36) having a plurality of curvilinear shield members (102) having inner and outer surface connected by light passages (104) and electrodes (28,88) for providing a discharged plasma (32) in a chamber (22).
IPC结构图谱:
| H | 电学 |
| --H01 | 基本电气元件 |
| ----H01J | 放电管或放电灯 |
| ------H01J1/00 | 电极的、磁控装置的、屏的零部件及其设置或间隔，通用于两种以上基本类型的放电管或灯的零部件 |
| --------H01J1/52 | .用作屏蔽的屏；影响放电的导片；插入电子流中的掩膜 |