基本信息:

• 专利标题： Mask for obtaining texturized patterns in resist layers using X-ray lithography, and method of manufacturing the same
• 专利标题（中）：使用X-RAY LITHOGRAPHY获取耐蚀层的纹理图案的掩模及其制造方法
• 申请号：EP83201242 申请日：1983-08-31
• 公开(公告)号：EP0104685A3 公开(公告)日：1985-07-03
• 发明人： Lentfer, Arno , Lüthje, Holger
• 申请人： Philips Patentverwaltung GmbH ,  N.V. Philips' Gloeilampenfabrieken
• 专利权人： Philips Patentverwaltung GmbH,N.V. Philips' Gloeilampenfabrieken
• 当前专利权人： Philips Patentverwaltung GmbH,N.V. Philips' Gloeilampenfabrieken
• 优先权： DE3232499 19820901
• 主分类号： G03F01/00
• IPC分类号： G03F01/00

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