基本信息:
- 专利标题： 电极同时响应于多频的等离子体处理器
- 专利标题（英）：Plasma processor with electrode simultaneously responsive to plural frequencies
- 申请号：CN03818710.8 申请日：2003-06-20
- 公开(公告)号：CN1675737A 公开(公告)日：2005-09-28
- 发明人： V·瓦荷迪 , P·罗文哈德特 , B·艾林伯 , A·库西 , A·菲谢尔
- 申请人： 拉姆研究有限公司
- 申请人地址： 美国加利福尼亚州
- 专利权人： 拉姆研究有限公司
- 当前专利权人： 拉姆研究有限公司
- 当前专利权人地址： 美国加利福尼亚州
- 代理机构： 上海专利商标事务所有限公司
- 代理人： 包于俊
- 优先权： 10/180,978 2002.06.27 US
- 国际申请： PCT/US2003/019366 2003.06.20
- 国际公布： WO2004/003963 EN 2004.01.08
- 进入国家日期： 2005-02-03
- 主分类号： H01J37/32
- IPC分类号： H01J37/32
摘要：
在加工工件的真空室内，等离子体以等离子体约束容积为界，包括同时响应于第一和第二RF频率功率的第一电极与DC接地第二电极之间的区域。DC接地延伸部分基本上直线对准第一电极。大部分第一频率功率耦合到包括第一与第二电极但不包括延伸部分的通路，大部分第二频率功率耦合到包括第一电极和延伸部分但不包括第二电极的通路。改变加到第一电极的第一与第二频率的相对功率，可控制第一电极的DC偏压。
公开/授权文献:
- CN100442430C 电极同时响应于多频的等离子体处理器 公开/授权日：2008-12-10